国外于60年前开始生产稀土抛光粉，二十世纪90年代已形成各种标准化、系列化的产品达30多种规格牌号。

　　目前，国外的稀土抛光粉生产厂家主要有15家（年生产能力为200吨以上者）。其中，法国罗地亚公司年生产能力为2200多吨。是目前大的稀土抛光粉生产厂家。美国的抛光粉年产量能力达1500吨以上。

。日本生产稀土抛光粉的原料采用氟碳矿、粗氯化和氯化稀土三种，工艺上各不相同。日本稀土抛光粉的生产在烧结设备和技术上均具特色。1968年，我国在上海跃龙化工厂研制成功稀土抛光粉。






因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的抛光粉（包括稀土抛光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。

以上原料中除种外，第2,3,4种均含轻稀土（w（REO）≈98%），且以CeO2为主，w（CeO2）为48%~50%.我国具有丰富的资源，据测算，其工业储量约为1800万吨（以CeO2计），这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础，也是我国独有的一大优势，并可促进我国稀土工业继续高速发展。

　　1.4主要生产工艺及设备

　　1.4.1高系稀土抛光粉的生产

　　以稀土混合物分离后的氧化为原料，以物理化学方法加工成硬度大，粒度均匀、细小，呈面心立方晶体的粉末产品。其主要工艺过程为：原料→高温→煅烧→水淬→水力分级→过滤→烘干→系稀土抛光粉产品。