以稀土抛光粉中CeO2量来划分：

　　稀土抛光粉的主要成分是CeO2,据其CeO2量的高低可将抛光粉分为两大类：一类是CeO2含量高的价高质优的高抛光粉，一般CeO2/TREO≥80%,另一类是CeO2含量低的廉价的低抛光粉，其含量在50%左右，或者低于50%,其余由La2O3,Nd2O3,Pr6O11组成。

　中系稀土抛光粉，主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光。该抛光粉与高粉比较，可使抛光粉的液体浓度降低11%,抛光速率提高35%,制品的光洁度可提高一级，抛光粉的使用寿命可提高30%.目前国内使用这种抛光粉的用量尚少，有待于今后继续开发新用途。

　　低系稀土抛光粉，如771型适用于光学眼镜片及金属制品的高速抛光；797型和C-1型适用于电视机显象管、眼镜片和平板玻璃等的抛光；H-500型和877型适用于电视机显象管的抛光。此外，其它抛光粉用于对光学仪器，摄像机和照像机镜头等的抛光，这类抛光粉国内用量，约占国内总用量85%以上。

在稀土抛光粉的消费中，日本是消费者，每年约生产3550吨~4000吨抛光粉，产值35亿~40亿日元，还从法国、美国和中国进口部分抛光粉。其中抛光粉消费市场是彩电阴极射线管。二十世纪90年代中期，日本阴极射线管的生产转向海外，而平面显示产品产量迅速增加，对基抛光粉的需求量也迅速增加。估计日本在液晶显示用平面显示器生产上消费的抛光粉约占其市场的50%.90年代以来，日本将其阴极射线管用抛光粉的生产技术和设备向海外转移，如：日本清美化学从1989年开始在海外生产阴极射线管用基抛光粉。