抛光粉通常由氧化、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组成，不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。氧化铝和氧化铬的莫氏硬度为9,氧化和氧化锆为7,氧化铁更低。

　　基稀土抛光粉是较为重要的稀土产品之一。因其具有切削能力强，抛光时间短、抛光精度高、操作环境清洁等优点，故比其他抛光粉（如Fe2O3）的使用效果佳，而被人们称为'抛光粉'.目前该产品在我国发展较快，应用日广，产量猛，发展前景看好。

以稀土抛光粉中CeO2量来划分：

　　稀土抛光粉的主要成分是CeO2,据其CeO2量的高低可将抛光粉分为两大类：一类是CeO2含量高的价高质优的高抛光粉，一般CeO2/TREO≥80%,另一类是CeO2含量低的廉价的低抛光粉，其含量在50%左右，或者低于50%,其余由La2O3,Nd2O3,Pr6O11组成。

因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的抛光粉（包括稀土抛光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。

以上原料中除种外，第2,3,4种均含轻稀土（w（REO）≈98%），且以CeO2为主，w（CeO2）为48%~50%.我国具有丰富的资源，据测算，其工业储量约为1800万吨（以CeO2计），这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础，也是我国独有的一大优势，并可促进我国稀土工业继续高速发展。

　　1.4主要生产工艺及设备

　　1.4.1高系稀土抛光粉的生产

　　以稀土混合物分离后的氧化为原料，以物理化学方法加工成硬度大，粒度均匀、细小，呈面心立方晶体的粉末产品。其主要工艺过程为：原料→高温→煅烧→水淬→水力分级→过滤→烘干→系稀土抛光粉产品。