（氧化铁）是历早使用的抛光材料，但它的抛光速度慢，而且铁锈色的污染也无法消除。随着稀土工业的发展，于二十世纪30年代，首先在欧洲出现了用稀土氧化物作抛光粉来抛光玻璃。在第二次中，一个在伊利诺斯州罗克福德的WF和BarnesJ公司工作的雇员，于1943年提出了一种叫做巴林士粉（Barnesite）的稀土氧化物抛光粉，这种抛光粉很快在抛光精密光学仪器方面获得成功。由于稀土抛光粉具有抛光、质量好、污染小等优点，激起了美国等国家的群起研究。这样，稀土抛光粉就以取代传统抛光粉的趋势迅速发展起来。






因此其粒度分布一般不大于10μm,粒度大于10μm的抛光粉（包括稀土抛光粉）大多用在玻璃加工初期的粗磨。小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，产量逐年提高。纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。






目前，我国生产系稀土抛光粉的原料有下列几种：（1）氧化（CeO2），由混合稀土盐类经分离后所得（w（CeO2）=99%）；（2）混合稀土氢氧化物（RE（OH）3），为稀土精矿（w（REO）≥50%）化学处理后的中间原料（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）；（3）混合氯化稀土（RECl3），从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土（主要含La,Ce,Pr和Nd,w（REO）≥45%,w（CeO2）≥50%）；（4）高品位稀土精矿（w（REO）≥60%,w（CeO2）≥48%），有内蒙古包头混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳矿精矿。