以稀土抛光粉中CeO2量来划分：

　　稀土抛光粉的主要成分是CeO2,据其CeO2量的高低可将抛光粉分为两大类：一类是CeO2含量高的价高质优的高抛光粉，一般CeO2/TREO≥80%,另一类是CeO2含量低的廉价的低抛光粉，其含量在50%左右，或者低于50%,其余由La2O3,Nd2O3,Pr6O11组成。

目前，我国生产系稀土抛光粉的原料有下列几种：（1）氧化（CeO2），由混合稀土盐类经分离后所得（w（CeO2）=99%）；（2）混合稀土氢氧化物（RE（OH）3），为稀土精矿（w（REO）≥50%）化学处理后的中间原料（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）；（3）混合氯化稀土（RECl3），从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土（主要含La,Ce,Pr和Nd,w（REO）≥45%,w（CeO2）≥50%）；（4）高品位稀土精矿（w（REO）≥60%,w（CeO2）≥48%），有内蒙古包头混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳矿精矿。

原料→干法细磨→配料→混粉→焙烧→磨细筛分→低级系稀土抛光粉产品。主要设备：球磨机，混料机，焙烧炉，筛分机等。主要指标：产品中w（REO）≥95%,w（CeO2）≥50%;稀土回收率≥95%;产品粒度为1.5μm~2.5μm.该产品适合于眼镜片、电视机显象管的高速抛光之用。目前，国内生产的低级系稀土抛光粉的量，约占总产量的90%以上。

稀土抛光粉的应用

　　由于系稀土抛光粉具有较优的化学与物理性能，所以在工业制品抛光中获得了广泛的应用，如已在各种光学玻璃器件、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的抛光。

　　高系稀土抛光粉，主要适用于精密光学镜头的高速抛光。实践表明，该抛光粉的性能优良，抛光效果较好，由于价格较高，国内的使用量较少。