主要指标:产品中w(REO)=99%,w(CeO2)=99%;稀土回收率约95%;平均粒经1μm~6μm(或粒度为200目~300目),晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高抛光粉早代替了古典抛光的氧化铁粉()。
1.4.2中系稀土抛光粉的制备
用混合稀土氢氧化物(w(REO)=65%,w(CeO2)≥48%)为原料,以化学方法预处理得稀土盐溶液,加入中间体(沉淀剂)使转化成w(CeO2)=80%~85%的中级系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为:
原料→氧化→优溶→过滤→酸溶→沉淀→洗涤过滤→高温煅烧→细磨筛分→中级系稀土抛光粉产品。主要设备:氧化槽,优溶槽,酸溶槽,沉淀槽,过滤机,煅烧炉,细磨筛分机及包装机。
原料→干法细磨→配料→混粉→焙烧→磨细筛分→低级系稀土抛光粉产品。主要设备:球磨机,混料机,焙烧炉,筛分机等。主要指标:产品中w(REO)≥95%,w(CeO2)≥50%;稀土回收率≥95%;产品粒度为1.5μm~2.5μm.该产品适合于眼镜片、电视机显象管的高速抛光之用。目前,国内生产的低级系稀土抛光粉的量,约占总产量的90%以上。
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