主要指标：产品中w（REO）=99%,w（CeO2）=99%;稀土回收率约95%;平均粒经1μm~6μm（或粒度为200目~300目），晶形完好。该产品适用于高速抛光。这种高抛光粉早代替了古典抛光的氧化铁粉（）。

　　1.4.2中系稀土抛光粉的制备

　　用混合稀土氢氧化物（w（REO）=65%,w（CeO2）≥48%）为原料，以化学方法预处理得稀土盐溶液，加入中间体（沉淀剂）使转化成w（CeO2）=80%~85%的中级系稀土抛光粉产品。其主要工艺过程为：

　　原料→氧化→优溶→过滤→酸溶→沉淀→洗涤过滤→高温煅烧→细磨筛分→中级系稀土抛光粉产品。主要设备：氧化槽，优溶槽，酸溶槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，细磨筛分机及包装机。

原料→干法细磨→配料→混粉→焙烧→磨细筛分→低级系稀土抛光粉产品。主要设备：球磨机，混料机，焙烧炉，筛分机等。主要指标：产品中w（REO）≥95%,w（CeO2）≥50%;稀土回收率≥95%;产品粒度为1.5μm~2.5μm.该产品适合于眼镜片、电视机显象管的高速抛光之用。目前，国内生产的低级系稀土抛光粉的量，约占总产量的90%以上。

稀土抛光粉的应用

　　由于系稀土抛光粉具有较优的化学与物理性能，所以在工业制品抛光中获得了广泛的应用，如已在各种光学玻璃器件、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的抛光。

　　高系稀土抛光粉，主要适用于精密光学镜头的高速抛光。实践表明，该抛光粉的性能优良，抛光效果较好，由于价格较高，国内的使用量较少。

在稀土抛光粉的消费中，日本是消费者，每年约生产3550吨~4000吨抛光粉，产值35亿~40亿日元，还从法国、美国和中国进口部分抛光粉。其中抛光粉消费市场是彩电阴极射线管。二十世纪90年代中期，日本阴极射线管的生产转向海外，而平面显示产品产量迅速增加，对基抛光粉的需求量也迅速增加。估计日本在液晶显示用平面显示器生产上消费的抛光粉约占其市场的50%.90年代以来，日本将其阴极射线管用抛光粉的生产技术和设备向海外转移，如：日本清美化学从1989年开始在海外生产阴极射线管用基抛光粉。