洁净室中的温湿度控制

　　洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。二是微量有害气体，是在密闭情况下，船舱内的非金属材料挥发出的，船舱密闭时间越久，有害气体浓度越高。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产湿度范围为35—45%。

　　净化工程乱流式：空气由空调箱经风管与洁净室内之空气过滤器(HEPA)进入洁净室，并由洁净室两侧隔间墙板或高架地板回风。气流非直线型运动而呈不规则之乱流或涡流状态。净化工程复合式：洁净管道(CleanTube)：将产品流程经过的自动生产线包围并净化处理，将洁净度等级提至100级以上。此型式适用于洁净室等级1,000-100,000级。优点：构造简单、系统建造成本低，洁净室的扩充比较容易，在某些特殊用途场所，可并用无尘工作台，提高洁净室等级。缺点：乱流造成的微尘粒子于室内空间飘浮不易排出，易污染制程产品。另外若系统停止运转再激1活，欲达需求之洁净度，往往须耗时相当长一段时间。

　　空气净化在人类生活中重要作用

　　人们每天平均有70%以上的时间在室内渡过。人工光300lx有较好的效果，当工件精细程度更高时，500x也是允许的。随着人们生产和生活方式的改变，更多的工作和体育娱乐活动都可在室内进行,购物也不必每天上街，合适的室内气候使人们不必经常到户外去调节热效应，这样，人们的室内活动时间就会更多，甚至高达90%以上。而老、幼、病、残等弱势群体、机体抵抗力较低、户外活动机会更少，因此，室内空气质量的好坏与人们的关系尤为重要。

      无尘室标准温湿度是多少?

      这个标准要根据你的无尘室用途和生产的产品来决定，比如电子类产品有些胶到24摄氏度就会明显地液化，没法用了，那使用这种胶的无尘室温度范围肯定要低，湿度也是类似的。

      也就是说，决定温湿度标准的是你的产品、工艺要求，而不是无尘室本身。无尘室要根据你的用途需求来进行设计，满足你的温湿度要求。没有完全统一的无尘室温湿度标准。