应用工序：精磨工序；磨削材料：高速钢、不锈钢、粉末冶金、磁性材料、合金铸铁、耐磨铸铁、铜件、铝件、塑料橡胶复合件、20CrMo、20CrMnTi、Cr12MOV等

适用范围：适用于不锈钢、铝合金金属、蓝宝石衬底、蓝宝石窗口、等半导体材料等。

　直径：380mm——610mm——810mm——910mm——1500mm

　孔径：200mm——500mm

　基体厚度：45mm——100mm

　粒度：30目——6000目

　CBN工作层厚度：5mm——15mm

 CBN层型状：圆形、扇形、整体形、多环带形

研磨盘精度：

 平行度≤0.02mm

　粗糙度0.1μm——1.2μm

　平面度0.001mm——0.004mm，平行度≤0.002mm，等高≤0.002mm

当磨机由于给矿量增大操作不慎引起“胀肚”现象。这时除声音有异常外，观察电流表就会发现电流下降。它说明双面研磨机内钢球和矿石已不做冲击和磨剥作用了，而是与筒体一起旋转，此时电机作功，所以电机运转就达不到额定电流了。     如果传动部位发生异常，如有别劲地方或联结部位螺丝松动等现象，电流就会出现周期性的上升下降摆动严重。     因此，通过观察电流表的电流变化是可以发现设备和生产条件上的一些不正常现象，双面研磨机操作工人在生产过程中必须经常注意观察电流变化。

（3 ）精抛

精抛主要使用钻石研磨膏。若用抛光布轮混合钻石研磨粉或研磨膏进行研磨的话，则通常的研磨顺序是 9 μ m （#1800 ） ~ 6 μ m （#3000 ） ~3 μ m （#8000 ）。 9 μ m 的钻石研磨膏和抛光布轮可用来去除 #1200 和 #1500 号砂纸留下的发状磨痕。接着用粘毡和钻石研磨膏进行抛光，顺序为 1 μ m （#14000 ） ~ 1/2 μ m （#60000 ） ~1/4 μ m （#100000 ）。

精度要求在 1 μ m 以上（包括 1 μ m ）的抛光工艺在模具加工车间中一个清洁的抛光室内即可进行。若进行更加精密的抛光则必需一个洁净的空间。灰尘、烟雾，头皮屑和口水沫都有可能报废数个小时工作后得到的高精密抛光表面。