zui近光刻机和蚀刻机一直都是当前zui热的话题，可以说光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，要想制造的芯片，这两个东西都必须。    这俩机器zui简单的解释就是光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面，刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉，这样看起来似乎没什么难的，但是有一个形象的比喻，每一块芯片上面的电路结构放大无数倍来看比整个北京都复杂，这就是这光刻和蚀刻的难度。    光刻的过程就是现在制作好的硅圆表面涂上一层光刻胶（一种可以被光腐蚀的胶状物质），接下来通过光线（工艺难度紫外光＜深紫外光＜极紫外光）透过掩膜照射到硅圆表面（类似投影），因为光刻胶的覆盖，照射到的部分被腐蚀掉，没有光照的部分被留下来，这部分便是需要的电路结构。    蚀刻分为两种，一种是干刻，一种是湿刻（目前主流），顾名思义，湿刻就是过程中有水加入，将上面经过光刻的晶圆与特定的化学溶液反应，去掉不需要的部分，剩下的便是电路结构了，干刻目前还没有实现商业量产，其原理是通过等离子体代替化学溶液，去除不需要的硅圆部分。






激光因其环保、制造工艺简单、维护成本低等优点，已成为大多数TP厂家的。激光蚀刻机用于高精度光学设备的日常维护，不仅能有效降低设备故障率，提高设备加工效率，降低生产成本的消耗。    日常维护和保养中首先务必要保证设备的清洁，并保证使其工作环境清洁无尘。ITO/Ag激光蚀刻设备的光学器件主要由晶体和镜片组成，且其表面均镀有精密膜，灰尘对所镀的膜层影响很大，不仅会减弱激光的输出功率，严重时还会损坏光学器件表面的膜层，以至光学器件损坏或报废，造成设备无法正常工作。    在平常的保养中，如发现光学器件表面有灰尘，可以用吹气球对着器件表面轻轻的吹去灰尘，严禁用嘴直接对着器件表面吹气。如果用吹气球无法除去器件表面的污垢，可以用镜头纸对器件表面轻轻的擦拭，还可以用脱脂棉醮酒精(纯度95%以上，是分析纯)对器件表面轻轻的擦拭。

平面图弹是运用于高精密电子器件通信.学.电子光学.地质勘探及其电动机等领域的高精密零部件，也称平面图弹簧。一般选用薄厚较薄的金属原材料开展生产加工，有不锈钢板和合金铜的材料。由于生产加工原材料较薄，非常容易形变，因而一般会挑选蚀刻机生产加工开展制做。选用金属有机化学蚀刻开展生产加工的平面图弹，高精度，不会改变。金属蚀刻中，蚀刻液的浓度值.溫度.纯净度都是会危害零件蚀刻加工的精密度，为了更好地获得达标的，优良的蚀刻加工实际效果与生产制造合格率，提议加工厂家每月少开展一次金属蚀刻液清槽。

实际金属蚀刻液清槽工艺流程如下所示：

1.将蚀刻加工槽内的金属蚀刻液抽出来过虑储放于密封器皿内。

2.槽内加水﹐并运行蚀刻加工马达循环系统约10min。

3.将槽内的液态排出掉。

4.加水再添加HCl10%水溶液﹐运行蚀刻加工马达循环系统约30min。

5.排出来四流程的液态。

6.加水并运行蚀刻加工马达循环系统约10min。

7.将槽液排出掉。

8.加水加上3-5%或子液中合﹐并运行蚀刻加工马达循环系统约30min。

9.将槽液排出掉。

10.加水并运行蚀刻加工马达循环系统约10min。

11.将槽液排出掉。

12.添加新的金属蚀刻液。

在古时候从业腐蚀加工的五金蚀刻设备厂家，并不像大家今日那样有很多的方式将文图迁移到必须腐蚀的金属表层 。开始的方式可能是选用一些石腊、、沥清等，也很有可能选用液体石蜡、熟桐油等有机材料。据记述到16新世纪时主要从事腐蚀加工的匠人们，要耐心地用时几个星期乃至数月的時间，将这种原材料按某类占比捣烂，再用液态沥清或熟桐油调和，也可能是立即升温熔融而做成维护建筑涂料。随后用软毛刷仔细地把维护建筑涂料擦抹在必须腐蚀的全部零件表层，经午燥或制冷硬底化后;再用针或刮板这类的硬块在防护层上把图案设计制做出去，下面便是用初始的方式开展腐蚀加工。我们可以想像，她们是如何地在腐蚀部位周边用石腊等常温下固体环氧树脂搭起天然屏障，随后将酸液渐渐地加到必须腐蚀的部位上。我们可以可能到这种主要从事腐蚀的匠人们会碰到的各种各样艰难，例如:防蚀层的黏着力不足，在都还没做到腐蚀深层规定时，防蚀层就很有可能所有或一部分掉下来，这时候就必须用手工制作来打磨抛光以除掉全部的腐蚀斑印;用石腊等天然树脂所搭起的防蚀墙并不可以非常好地避免 酸的外流，使零件的边缘或别的部位遭受腐蚀，而这种零件在开展腐蚀以前就早已加工进行，与此同时已具备价格昂贵的使用价值，并从而而担负巨大的风险性。伴随着别的輔助技术性和有机材料的发展趋势，可以用非金属材质制做成实的器皿，与此同时也慢慢把握了应用防蚀建筑涂料对零件别的部位的维护，这时候就可以立即将零件浸人一足可。