凌净（厦门）环境科技有限公司提供各类净化等级洁净厂房、洁净车间、洁净手术室、实验室等净化工程、中央空调系统工程、恒温恒湿精密空调工程、高低温冷库工程，设计、安装、施工、调试、维护以及销售实验室设备耗材，洁净设备耗材等。

随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。

如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面

同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产湿度范围为35—45%。气压规定对于大部分洁净空间，为了防止外界污染侵入，需要保持内部的压力（静压）高于外部的压力（静压）。压力差的维持一般应符合以下原则，洁净空间的压力要高于非洁净空间的压力。

有的工程中由于加湿的带水问题没有处理好，结果后面的中效过滤器甚至过滤器都被携带的水打湿了。对于干蒸汽加湿器也要注意蒸汽管和凝结水管的坡度和坡向问题，要使凝结水迅速地排到空调器外。若加湿器设在空调器的风机段内，还应采取措施避免凝结水滴到电机上，造成电机短路断电。