真空镀膜主要分为哪几类？

真空镀膜技术初现于20世纪30年代，四五十年代出现工业应用，工业化大规模生产开始于20世纪80年代，在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。中国在商代出现了较为完善的炼铜炉，炉温达到1200℃，炉子内径达0。真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金属材料)，属于气相沉积工艺。因为镀层常为金属薄膜，故也称真空金属化。

在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

真空镀膜机应用广泛企业需创新

真空镀膜机的应用范围覆盖了广阔的领域，包括电子产品、日用品以至于任何需要表面处理镀膜的产品。购买制造***的真空镀膜机仍是当前不少镀膜厂家的选择，在激烈的竞争中，我国真空镀膜机如何才能脱颖而出？***化的机器在竞争中更有优势，没有技术是不太现实的。在春秋战国时期，人们在熔铜炉的基础上进一步掌握了提高炉温的技术，从而生产出了铸铁。真空镀膜机在发展中不仅会加快工艺的改进，也会在引进新的技术，在一体化的基础上，来实现自动化、智能化的生产过程，使得镀膜机更加的完善，更加强大。真空镀膜机拥有着巨大的潜在市场，随着技术上不断的完善，它的现代化程度越高，工作效率越高，功能越强大，将不断的走向***。

用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。烟雾体是以固体或液体的微小颗粒呈浮状态存在于气体中的物质体系。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，同时接地技术很复杂，因而难大规模采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。