真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相堆积（PVD）技术和化学气相堆积（CVD）技术。

物理气相堆积技术是指在真空条件下，运用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接堆积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相堆积方法制得，它运用某种物理进程，如物质的热蒸腾，或遭到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控搬运进程。

链条隧道式传递机构的缺陷是，1、真空室之间的连接阀门需要较大尺寸，这样，不同真空室之间的气氛容易互串，进而降低镀膜质量、成品率等；2、需要较高的设计精度、加工水平，由于是柔性结构，容易出现匹配不准确，导致传送出现故障。真空镀膜机往复步进齿条推杆式传送机其传递过程为，固定在镀膜室顶上或底盘上（与公转盘同一侧）、并可以往复运动的齿轮G、齿条H－推杆机构，顺序实现自转工件杆Am从真空室M的公转盘Jm向真空室N的公转盘Jn的传递。齿轮、齿条所用的动力是通过轴密封在真空室外的电机来实现。为使自转工件杆脱离公转盘进入下一个公转盘，在公转盘与自转轴之间采用开放式连接，同时在固定于镀膜室内并维持自转的内齿轮盘相应位置开口，实现自转工件杆从镀膜室M传送到下一个镀膜室N。

与链条式传送机构相比，该机构为刚性传送，不存在齿合不准确问题同时，由于需要的过渡空间小，可以节约真空室之间阀门的开关时间、进一步减少不同真空室之间的气氛互串。因而极大的提高了镀膜工艺***性、成品率，降低能耗和成本等。

随着镀膜技术的发展，各类真空镀膜机也逐渐出现，不管是哪种真空镀膜机，薄膜的均匀性都会受到一些因素的影响。现在，我们就以磁溅射真空镀膜机来分析成膜不均匀的因素。