真空镀膜磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击亚气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。

不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。

改善思路：基片本身的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本身可能是膜料匹配问题。

改善对策：

1、改进膜系，层不用氧化锆。

2、尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备工作。

3、真空室在更换护板、清洁后，好能空罩抽真空烘烤一下，更换的护板等真空室部件必须干燥、干净。

4、改善环境

5、妥善保护进罩前在伞片上的镜片，免受污染。

6、改善洗净、擦拭效果。

7、改善膜匹配（考虑层用Al2O3）

8、改善膜充氧和蒸发速率（降低）

9、加快前工程的流程。前工程对已加工光面的保护加强。

10、抛光加工完成的光面，必须立即清洁干净，不能有抛光粉或其他杂质附着干结。

当时，也就是二者的光程差为奇数个半波长时，两束光会抵消。

具体来说，波长和厚度d满足以上关系的光，就不会发生反射。

然后这部分的光就进入不了我们的眼中了，于是我们看到的就是其互补色。比如消了绿色的光，我们看到的镜片就是红色的。

互补色环：

镀了单层增透膜的镜片通常是蓝紫色或是红色，镀多层增透膜的镜片则呈淡绿色或暗紫色。

镀多层膜的目的一个是利用上面的公式，进一步提高透射率，另外的目的，就不仅仅在于增透了，如下图是树脂眼镜片上的镀膜，镜片上所镀膜层由下至上依次是镜片加硬膜、连接层、多层增透膜、镇水膜。