对一些产品，如许多板件、管件、铸件、锻件和化工用的槽池等，壁厚设计时除了要考虑必要的机械强度保障以外，还必须预留一些腐蚀余量；

真空镀膜主要是为了减少反射。为了提高镜头的透光率和影像的质量，在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行真空镀膜。镜头的真空镀膜是根据光学的干涉原理，在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质(通常为氟化物)，使镜头对这一波长的色光的反射降至较低。显然，一层膜只对一种色光起作用，而多层真空镀膜则可对多种色光起作用。

溅射靶材具有高纯度、高密度、多组元、晶粒均匀等特点，一般由靶坯和背板组成。靶坯属于溅射靶材的中心部分，是高速离子束流轰击的目标材料。靶坯被离子撞击后，其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜。由于高纯度金属强度较低，因此溅射靶材需要在高电压、高真空的机台环境内完成溅射过程。超高纯金属的溅射靶坯需要与背板通过不同的焊接工艺进行接合，背板起到主要起到固定溅射靶材的作用，且需要具备良好的导电、导热性能。

改善思路：基片本身的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本身可能是膜料匹配问题。

改善对策：

1、改进膜系，层不用氧化锆。

2、尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备工作。

3、真空室在更换护板、清洁后，好能空罩抽真空烘烤一下，更换的护板等真空室部件必须干燥、干净。

4、改善环境

5、妥善保护进罩前在伞片上的镜片，免受污染。

6、改善洗净、擦拭效果。

7、改善膜匹配（考虑层用Al2O3）

8、改善膜充氧和蒸发速率（降低）

9、加快前工程的流程。前工程对已加工光面的保护加强。

10、抛光加工完成的光面，必须立即清洁干净，不能有抛光粉或其他杂质附着干结。