长期以来，PVD真空电镀材料的开发和生产主要集中在美国、日本和德国的少数公司，产业集中度高。范围内，日矿金属、霍尼韦尔、曹东、普莱克斯、住友化工等资金实力、技术水平、行业经验丰富的跨国公司在高纯度溅射靶行业处于地位，属于传统强势溅射靶企业，占据溅射靶市场的绝大部分市场份额，溅射靶行业的发展。PVD真空电镀行业被美国、日本、德国企业垄断。


真空镀膜的种类：在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空电镀有什么特点：适用范围广泛，可用于许多不同材料的物体，在工件真空镀膜条件下涂一层薄膜，可用于：钢、锌合金材料等。


盘点电镀材质：一、真空电镀以不锈钢材质为优，金属真空电镀厂有着20多年的镀膜经验，涉及到的电镀产品90%以上都是不锈钢材质，因其本身致密性较好，膜层覆盖在上面附着力就强，对产品可以起到耐磨、防腐蚀的双重保护。二、塑料、树脂等气孔较多的物质，因为在真空中很难以去除杂气，外表难以清洗，所以现阶段还不能真接真空电镀。


真空电镀技术的精美处理，你值得拥有：基材：ABS、PC、ABS+PC等树脂类均可成型真空电镀，要求底材为纯原料，电镀级别更佳，不可加再生材；底漆：UV底漆，对基材表面做预处理，为膜层的附著提供活性界面，底漆厚度一般在5-10um，特殊情况可酌情加厚；膜层：靶材蒸发的结果，VM膜层可导电，NCVM镀层不导电，且抗干扰性效果很好，膜层厚度0.3um以下。