真空镀膜的种类：在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空电镀有什么特点：适用范围广泛，可用于许多不同材料的物体，在工件真空镀膜条件下涂一层薄膜，可用于：钢、锌合金材料等。


真空电镀具有以下优点：节约金属数据：由于真空涂层的附着力、致密性、硬度、耐腐蚀性等优点，积累的涂层可远小于传统的湿涂层，达到节约的目的。真空电镀与水电镀对比优缺点：两种工艺的优缺点：A、水电镀一般的镀层材质采用“六价铬”，这是非环保材料.对于“六价铬”有如下的要求：欧盟：ROHS：<1000ppm；76/769/EEC：禁止使用；94/62/EC：<100ppm。


NCVM，又称非连续涂层技术或非导电电镀技术，是一种起源于普通真空电镀的高科技技术。真空电镀，简称Vacumplating缩写。是指金属材料在真空条件下，通过化学、物理等特定手段进行有机转换，将金属转化为颗粒，积累或吸附在塑料材料的外观上，形成膜，即所谓的涂层。真空电镀与水电镀对比优缺点：真空电镀不过UV油，其附着力很差，无法过百格TEST。