厚度均匀和均镀能力好是化学镀镍的一大特点，也是应用广泛的原因之一，化学镀镍避免了电镀层由于电流分布不均匀而带来的厚度不均匀，电镀层的厚度在整个零件，尤其是形状复杂的零件上差异很大，在零件的边角和离阳极近的部位，镀层较厚，而在内表面或离阳极远的地方镀层很薄，甚至镀不到，采用化学镀可避免电镀的这一不足。化学镀时，只要零件表面和镀液接触，镀液中消耗的成份能及时得到补充，任何部位的镀层厚度都基本相同，即使凹槽、缝隙、盲孔也是如此。


离子镀特点(1)在真空条件下进行工艺操作,不用酸碱盐,不允许用液体,没有三废排放,对环境没有污染,不需治理污染投资。(2)生产过程中不产生六价铬,不用qing化物,离子镀对人体无害。(3)各类基材表面均可以进行离子镀工艺操作,如钢铁、铜合金、铝合金、锌基合金、塑料、纸张、布、木材、陶瓷、玻璃……均可进行离子镀,只是选择不同离子镀技术和不同工艺而以。


水电镀因工艺较简单，从设备到环境得要求均?有真空离子镀苛刻，从而被广泛应用.但水电镀有个弱点，只能镀ABS料和ABS+PC料（此料镀的效果也不是很理想）。而ABS料耐温只有80℃,这使得它的应用范Χ被限制了。而真空电镀可达200℃左右，这对使用在高温的部件就可以进行电镀处理了。真空电镀使用的镀层材质广泛、容易符合环保要求。简单一点，就是在真空状态下将需要涂覆在产品表面的膜层材料通过等离子体离化后沉积在工件表面的表面处理技术。

超高纯金属及溅射靶材是电子材料的重要组成部分，溅射靶材产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节，其中，靶材制造和溅射镀膜环节是整个溅射靶材产业链中的关键环节。

上游的金属提纯主要从自然界重点金属矿石进行提纯，一般的金属能达到99.8%的纯度，溅射靶材需要达到99.999%的纯度。

此环节是在溅射靶材产业链条中对生产设备及技术工艺要求高的环节，溅射薄膜的品质对下游产品的质量具有重要影响。