离子镀特点(1)在真空条件下进行工艺操作,不用酸碱盐,不允许用液体,没有三废排放,对环境没有污染,不需治理污染投资。(2)生产过程中不产生六价铬,不用qing化物,离子镀对人体无害。(3)各类基材表面均可以进行离子镀工艺操作,如钢铁、铜合金、铝合金、锌基合金、塑料、纸张、布、木材、陶瓷、玻璃……均可进行离子镀,只是选择不同离子镀技术和不同工艺而以。


按使用的原材料材质不同，溅射靶材可分为金属/非金属单质靶材、合金靶材、化合物靶材等。溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术之一，各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应用，因此，对溅射靶材这一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，溅射靶材亦已成为目前市场应用量较大的PVD 镀膜材料。

改善思路：基片本身的问题可能是主要的，镀膜是尽量弥补，镀膜本身可能是膜料匹配问题。

改善对策：

1、改进膜系，层不用氧化锆。

2、尽量减少真空室开门时间，罩与罩之间在的时间内做好真空室的清洁、镀膜准备工作。

3、真空室在更换护板、清洁后，好能空罩抽真空烘烤一下，更换的护板等真空室部件必须干燥、干净。

4、改善环境

5、妥善保护进罩前在伞片上的镜片，免受污染。

6、改善洗净、擦拭效果。

7、改善膜匹配（考虑层用Al2O3）

8、改善膜充氧和蒸发速率（降低）

9、加快前工程的流程。前工程对已加工光面的保护加强。

10、抛光加工完成的光面，必须立即清洁干净，不能有抛光粉或其他杂质附着干结。