




如钢铁、铜合金、铝合金、锌基合金、塑料、纸张、布、木材、陶瓷、玻璃……均可进行离子镀,只是选择不同离子镀技术和不同工艺而以。镀膜与基材之间可以形成过渡层,所以镀膜的附着性比电镀膜好(电镀膜没有过渡层),如铜材表面离子镀铝,在膜的深度方向,有铜与铝共存区,有2m~4m宽度的过渡层如图1所示。铜基材离子镀铝过渡层经X-衍射分析,工件脉冲负偏压-1500V,铜与铝形成Al4Cu9、AlCu3合金相。
真空蒸发镀膜是指在真空条件下,通过蒸发源加热蒸发某种物质使其沉积在基板材料表面来获得薄膜的一种技术。被蒸发的物质被称为蒸镀材料。蒸发镀膜早由M.法拉第在1857年提出,经过一百多年的发展,现已成为主流镀膜技术之一。
真空蒸发镀膜系统一般由三个部分组成:真空室、蒸发源或蒸发加热装置、放置基板及给基板加热装置。在真空中为了蒸发待沉积的材料,需要容器来支撑或盛装蒸发物,同时需要提供蒸发热使蒸发物达到足够高的温度以产生所需的蒸汽压。
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