东莞真空电镀厂阐述,化学组分上的均匀性:就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀特性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。
东莞真空电镀厂分析,晶格有序度的均匀性:这决定了薄膜是单晶,多晶,非晶,是真空镀膜技术中的热点问题。
模具材料不要用铍青铜合金,宜用高质量真空铸钢制造,型腔表面应沿出模方向抛光到镜面光亮,不石龙小于0.2mm,表面好镀硬铬。
东莞真空电镀设备焊接是真空室制造中的一道关键工序,保证焊接之后的真空室不会产生漏气现象,须合理设计焊接结构,提高焊接质量,真空电镀设备处在超高真空的内壁粗糙度要抛光使室外室内表面很光洁,须特别注意的是防止生锈。
1、涂层与贱金属之间以及涂层与涂层之间应具有杰出的附着力。
2、涂层应小心结晶,光滑均匀,厚度均匀。
3、涂层应具有规则的厚度和尽可能少的孔隙。
4、涂层应具有规则的目标,如亮度、硬度、电导率等。
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