厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在。

胶液的粘度与网线辊线数有一定的匹配关系，超出匹配区间太大会破坏胶的涂布状态，造成“白点”的产生和更严重的其它方面的影响，但在镀铝膜上似乎主要还是“白点”的产生更令人关注。UV,辐射,水性,粉末,溶剂 qo N N3s z。

软包装企业必须坚持涂布辊的定期清洗制度，掌握正确的涂布辊清洗方法。在生产满白底或浅底色印刷膜时，要注意两点，首先，生产前将刀、涂布辊、展平辊等***清洗。

真空电镀加工技术一般分为两大类，即物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。

物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。