厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在。

真空电镀设备在光学仪器中的应用：人们熟悉的光学仪器显微镜、照相机、测距仪，以及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等，它们都离不开真空电镀设备技术，镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。

真空电镀设备在信息存储领域中的应用：薄膜材料作为信息记录于存储介质，有其得天独厚的优势，磁化反转极为迅速，与膜面平行的双稳态状态容易保持等。

七彩电镀设备在集成电路制造中的应用：晶体管路中的保护层、电极管线等多是采用CVD技术、PVCD技术、真空蒸发金属技术、磁控溅射技术和射频溅射技术。

1、在电镀时，及时是形状简单的平板零件，由于电流的边缘效应，电力线容易在零件的尖角、边缘上集中，电流密度比较大，因此镀层厚度大于平均厚度，而在中部电力线比较少，电流密度较小，因此镀层厚度小于平均厚度。

2、东莞真空电镀厂分析，对于形状不平的或者有深孔的复杂零件，出了电流的边缘效应外，还由于形状不平俩处于阳极的距离不通，使他们彼此间的欧姆点电阻也不同，因而电流密度在形状不平处的分布也不相同，不同处与阳极距离近，电阻小，电流密度就大。