深圳澄和科技有限公司成立于 2020 年，位于宝安区创维创新谷，苏州与来视讯为其母公司 。

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高解析度为实现大面积高解析度的液晶显示，通常需要采用低阻抗金属材料、开关元件以及高精细加工技术等手段。在低阻抗金属制作 TFT 总线上，研究和使用较多的材料是铝。通过围绕解决铝易形成小丘、化学腐蚀以及氧化等问题，先后报道了合金法 （如 Al- Cu、Al- Si、Al- Nd以及 Al- Ti 等） 和夹层法 （如 Mo/Al/Mo、Cr/Al/Cr以及 Ti/Al/Ti 等），合金法在工艺上相对比较简单，但材料的电阻率较高 。1998 年5 月，IBM 利用Al- Nd 合金作为栅电极，开发出 16 . 3 英寸超高解析度（200ppi）a- Si TFT 显示器，并已实现批量生产 。1999 年4月， 东 芝 推 出 的 20.8 英寸16- SVGA（3 , 200 ×2 , 400）a- Si TFT- LCD，可谓是代表了 a- Si TFT- LCD 在高解析度和高容量方面的水平。

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LED指用LED（发光二极管）作为背光光源的液晶显示器（LCD），通常意义上指 WLED（白光 LED）。LED 显示器的优势是体积小、功耗低，因此用 LED 作为背光源，可以在兼顾轻薄的同时达到较高的亮度。其不足主要是色彩表现比 CCFL 显示器差，所以***绘图 LCD 大都仍采用传统的 CCFL 作为背光光源。低成本一般而言，降低成本已成为企业赖以生存的重要法则。纵观 TFT- LCD 的发展历程，不难发现，增大玻璃基板尺寸、减少掩模版数量、提升基台产能和产品良率以及就近采购原材料等方式，是众多 TFT- LCD 生产企业不断努力的方向。

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由此可见，TFT 生产工艺从早期的 8掩模版或 7掩模版光刻工艺发展到普遍采用的5掩模版或 4掩模版光刻工艺，大大地缩减了 TFT- LCD 生产周期和生产成本。4掩模版光刻工艺已成为业界主流。为了不断降低生产成本，人们一直在努力探索如何进一步减少光刻工艺流程中掩模版的使用数量。近年来，一些韩国企业在 3掩模版光刻工艺的开发上取得了突破性进展，并已宣告实现量产，但由于 3掩模版工艺技术难度大、良品率也较低，还在进一步的发展和完善中。从长远的发展来看，如果 Inkjet（喷墨）打印技术取得突破，实现无掩模制造才是人们追求的目标。