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南京硅片刻蚀机来电垂询「苏州晶淼半导体」
来源:2592作者:2022/7/11 3:13:00

硅片清洗物理清洗 

 物理清洗有三种方法。①刷洗或擦洗:可除去颗粒污染和大多数粘在片子上的薄膜。②高压清洗:是用液体喷射片子表面,喷嘴的压力高达几百个大气压。高压清洗靠喷射作用,片子不易产生划痕和损伤。但高压喷射会产生静电作用,靠调节喷嘴到片子的距离、角度或加入防静电剂加以避免。③超声波清洗:超声波声能传入溶液,靠气蚀作用洗掉片子上的污染。但是,从有图形的片子上除去小于 1微米颗粒则比较困难。将频率提高到超高频频段,清洗效果更好。


超声波清洗机在各个行业的应用

光学、光电、光伏行业:

需要清洗的产品:光学玻璃及组件、光电玻璃及组件、光伏玻璃及组件等

污染源1:研磨粉、真漆、沥青、润滑油、抛光剂、石墨、微尘

污染源2:尘垢、盐、手垢

使用清洗剂1:有机性洗涤剂,醇类(·等)

使用清洗剂2:碱性洗涤剂,酸性洗涤剂,中性洗涤剂,纯水

清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为:超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等;

飞机工业:

需要清洗的产品:发动机部件、各类附件、燃料油过滤机、燃料计量仪表、注入喷嘴、旋转翼、流量控制装置、机械控制装置用零件、轮毂、各类精密零部件等

污染源:氧化物、灰尘、机械运转时产生的碎屑、油类、润滑油、抛光粉、防腐剂、积碳

使用清洗剂:有机性洗涤剂;轻油(洗油等);水基洗涤剂;纯水


超声波清洗机酿造/制药工业:

需要清洗的产品:瓶、盖子、标签去除装置、排气装置、处理器皿、处理用器具、充填装置管道等

污染源:残剩食物、指纹、灰尘、线头、淀粉、染料、蛋白印刷(烘烤前)油、润滑油、硅油

使用清洗剂:碱性洗涤剂、酸性洗涤剂、中性洗涤剂;有机洗涤剂;纯水

清清洗设备是指可用于替代人工来清洁工件表面油、蜡、尘、氧化层等污渍与污迹的机械设备。目前市面上所见到清洗设备为:超声波清洗、高压喷淋清洗、激光清洗、蒸汽清洗、干冰清洗及复合型清洗设备等;


王经理 (业务联系人)

13771773658

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