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南京硅片酸洗设备即时留言「苏州晶淼半导体」
来源:2592作者:2022/7/18 11:49:00






LED照明纳入国家节能计划


 国家发改委今年调整「节能产品惠民工程」补充,首度将LED照明产品纳入,未来可望会加速LED照明,包括晶电、亿光、东贝、艾笛森、新世纪等LED厂将会受惠。

  中国在节能减碳的政策又有新的方向,今年年初发改委、修改「节能产品采购实施意见,调整「节能产品惠民工程」补贴,这项新政策2月才出炉,未来将会把LED照明产品纳入其中,保守预估这至少千亿元以上的商机。





等离子刻蚀机的制备工艺简单 2.即使在处理复杂的轮廓结构时,离子刻蚀设备等离子蚀刻机也可以进行有针对性的准备。等离子刻蚀设备的刻蚀工艺改变了氮化硅层的形态。等离子刻蚀设备的刻蚀工艺改变了氮化硅层的形态。等离子蚀刻设备可以实现表面清洗、表面活化、表面蚀刻。并且表面涂层等特性可以达到不同的处理效果,这取决于被处理的材料不同。




利用强腐蚀性的强酸蚀刻掉不需要的部份,剩余的部份即为常见的蚀刻片产品。它的细部表现功夫凌驾于现有的各种模型材料之上,只要掌握制作技巧并辅助使用于模型上,相信可令您的作品精细度巨增。但因其硬度高,所以在切割及加工时较麻烦,而且无法用一般的烙铁来焊接组合。铜的外观不及不锈钢的亮丽,但硬度低,很容易加工,可以用一般的烙铁来焊接组合。




刻蚀工艺顺序位于镀膜和光刻之后。简单来说,刻蚀机的作用就好像是雕刻中的刻刀一样,利用光学-化学反应原理和化学、物理等刻蚀方法,将晶圆表面附着的不必要的材质进行去除,留下的就是晶圆所需要的材质和附着在其上的光刻胶。然后再多次重复上述步骤,就可得到构造复杂的集成电路。

化学清洗槽(也叫酸槽/化学槽),主要有HF,,H2SO4,H2O2,HCL等酸碱液体按一定比例配置,目的是为了去除杂质,去离子,去原子,后还有DI清洗。IPA是,就是工业酒精,是用来clean机台或parts的,是为了减少partical的。




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