在线真空脱气机（G1322A/G1379B）

四通路在线真空膜过滤技术，内置真空泵，压力传感器，实时监控真空腔压力变化，保

证及时的脱气操作。

真空维持：

 G1322A 自动监测真空状态，真空降低，自动启动真空泵，有效维持真空度。

 G1379B 连续真空运行，有效降低液流脉动，适配低流速液相色谱系统。

大流速：每一通路 10mL/min（G1322A）；5.0mL/min（G1379B）

内体积：每一通路 12mL （G1322A）；1.0mL（G1379B）

pH 耐受范围：1~14

单光路二极管阵列检测器配备HP1100液相色谱仪的光路如下:

消除色差透镜系统聚焦后，光源发出的复合光照射到流通池上。透射光通过全息凹面衍射光栅分散后，投射到由1024个二极管组成的二极管阵列中进行检测。光路系统中的光闸是的运动部件。它有三个动作位置：

（1）光闸覆盖所有入射光束进行暗电流补偿；

（2）将氧化钦滤光片插入光路，准确校正衍射波长；

（3）打开光闸，使入射光通过样品流通池照射在光栅上。

实现晶体的外延生长。这种技术可以生长Si、GaAs、GaAlAs、GaP等半导体材料以及石榴石等磁性材料的单晶层,用以做成各种光电子器件、微波器件、磁泡器件和半导体激光器等 [1]  。液相外延由尼尔松于1963年发明，成为化合物半导体单晶薄层的主要生长方法，被广泛的用于电子器件的生产上。薄层材料和衬底材料相同的称为同质外延，反之称为异质外延。液相外延可分为倾斜法、垂直法和滑舟法三种。


其中倾斜法是在生长开始前，使石英管内的石英容器向某一方向倾斜，并将溶液和衬底分别放在容器内的两端；垂直法是在生长开始前，将溶液放在石墨坩锅中，而将衬底放在位于溶液上方的衬底架上；滑舟法是指外延生长过程在具有多个溶液槽的滑动石墨舟内进行。在外延生长过程中，可以通过四种方法进行溶液冷却：平衡法、突冷法、过冷法和两相法。