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精细研磨仪器来电咨询 苏州特斯特
来源:2592作者:2022/6/16 4:13:00






可选择面积样品制备系统;可用于元器件光发射,热发射以及红外成像分析的背面减薄;可减薄位于晶圆, 多芯片模块及混 合电路中的单个芯片;多层存储芯片内部分析的必备工具;无划痕,可达镜面效果;制样面积从1x1mm到40x40mm。苏州特斯特电子科技有限公司,主要从事各类测试、检测仪器设备的代理销售和技术服务,产品涵盖电子元器件,电路板,线缆线束的测试与检测。设备主要来自于欧美日等***测试设备制造国家。









精密制样设备;前数字指示器显示实时的材料去除率(样品的行程),1微米分辨率;主轴设计保证样品垂直于研磨盘,使之同时旋转。双轴测微计控制样品角坐标设置(斜度和摆度),+10°/-2.5°幅度, 0.01° 增量。后置的数字指示器显示垂直位置(静态),具有归零功能,1微米分辨率;6倍速样品自动摆动。研磨盘速度范围:5-350 RPM(5转速增量)触摸面板控制所有功能。? HP(190瓦)耐用的减速箱电机提供高转矩;顺时针/逆时针研磨盘旋转。






自动研磨机适用于高精微(光镜,SEM,TEM,AFM,ETC)样品的半自动准备加工研磨抛光,模块化制备研磨,平行抛光,角抛光,定址抛光或几种方式结合抛光,主要应用于半导体元器件失效分析,IC反向等领域,实现断面精细研磨及抛光、芯片工艺分析、失效点的查找等功能。 其可以预置程序定位切割不同尺寸的各种材料,可以高速自动切割材料,提高样品生产量。其微处理系统可以根据材料的材质、厚度等调整步进电动机的切割距离、力度、样品输入比率和自动进刀比率等。






激光开封的方法主要应用场合:

(1)  半导体器件的失效分析开封。塑封材料的和去除,取代传统的低效率化学品开封,解决化学品开封对铜线及内部器件的破坏。

(2)  塑封工艺设计和工艺参数有效性的验证。解决X射线无法检测铝线塑封后冲丝塌陷的问题,使完全开封后对铜线金线的打线点的仔细观察成为可能。

(3)  应用于模块使用厂家,进料检验时完全打开器件以观察内部是否存在设计或生产缺陷。

激光开封机性能指标:

功率调节范围:10%~100%。

光束直径:7~8mm。

光束质量:1.3~1.7。







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