光刻技术能够 说每一构件全是技术含量很高，步步重重困难。使特殊的纳米越过光掩膜直射在光刻胶上，能够对光刻胶开展可选择性直射（曝 i 光）。 短板关键集中化在镜片、掩膜版、灯源、动能控制板等。 下边简单单详细介绍光刻技术的构造和原理： 光刻技术的灯源有：激光器，紫外线、深紫外线、极紫外线。如今优i秀技术性是极紫外线。 图为要以激光器为灯源的光刻技术简单工作中电路原理图： 在生产制造集成ic时，***i先在圆晶（硅芯片）表层涂光感胶，再用光源穿透掩模板（等于集成ic电路图纸的胶片照片）直射硅片表层，被光源照射的灯光效果胶会产生反映。自此用特殊有机i溶剂洗掉被直射或是未被直射的胶，电路原理图就印到硅片上。 此全过程等于木工施工用墨斗施工放样、画线。

公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！

菲林在使用中需注意的事项

激光照排菲林中含有防光晕层，在定影、水洗的过程中有一些会脱落,在片基上形成淡蓝色的水斑，可在定影液中加入适量的坚膜剂消除。十字线:当铬膜玻璃只能部分覆盖晶片时，称为十字线光掩模，图案通常放大4、5或10倍。水洗槽要经常保持清洁，每天在工作结束后要将水槽中的水放掉，用干净的纱布擦干。每次加水之前要先将水放掉一些以除掉水锈，每周至少要坚持清洗水辊一次。

在描绘时，选用步进电机机描绘(stepper)，在其中有电子束和激光器之分，粒子束立即在有涂铬层的4-9“ 玻璃板上描绘，边沿起始点5mm，与电子束对比，其弧型更真实，图形界限与间隔更小。菲林在使用中需注意的事项其他条件不变，显影液的浓度越高，温度越高，则胶片的高密越高。光掩膜有掩膜正版(reticle mask，也是称之为正中间掩膜，reticle做为企业译成光纤传感器)，用步进电机机反复将占比变小到master maks上，运用到具体曝 i 光中的为工作中掩膜(working mask)，工作中掩膜由master mask复 i 制回来。