表面处理工艺——真空电镀：物理气相沉积（PVD），即在真空下将原子打到靶材表面上达到镀膜的目的。运用于光学镜片，如航海望远镜镜片，后来随着技术的改进，延伸到了唱片、磁盘、光盘、手机外壳、机械刀具等材料上的装饰镀膜、材料表面改性等。适用材料：几乎所有金属、合金、及陶瓷材料。自然材料会影响真空环境，不适合真空电镀。


金属真空电镀厂——盘点电镀材质：金属真空电镀厂可以镀出五颜六色的膜层，这种膜层有防腐、耐磨性能。但并不是所有的材质都适合真空电镀，小编在此盘点一下，哪些材质可以直接真空镀，哪些材质需要先化学镀铬、镍或者水镀PNP再真空电镀，哪些材质在目前条件下还不能实现真空电镀。塑料、树脂等气孔较多的物质，因为在真空中很难以去除杂气，外表难以清洗，所以现阶段还不能真接真空电镀。


电镀生产的滚镀过程中需注意的事项：电流密度差异大。滚镀的阴极电流密度虽然较大，然而由于电流密度差异悬殊，多数电流消耗在高电流密度的工件上，平均电流密度却很小，结果是阴极电流效率低，如操作中稍有疏忽，镀层厚度就难以保证。滚镀过程中同时存在化学溶解。当工件翻滚时会使电流时断时续，要求加厚镀层需要延长滚镀时间，然而在局部处的镀层仍难以增厚。