真空镀膜工厂底涂处于基材和真空镀层之间，其作用主要有：

（1）通过底涂封闭基材，防止真空镀膜时基材中的挥发性杂质逸出，影响镀膜质量;

（2）塑料表面较粗糙，底涂预处理后，可通过涂层获得光滑平整的镜面效果;

（3）在薄膜材料上预涂底漆可进一步加强薄膜的阻隔性;

（4）预涂底漆有利于获得更厚的真空镀层，展现出更高的反射效果和力学性能;

（5）某些表面极性较低的基材如PP等与镀层的附着力较差，通过底漆可获得较好的镀层附着性;

（6）对某些耐热性较差的塑料基材，底涂可以起到一定的热缓冲作用，保护基材免遭热致形变。

真空镀膜工厂

在具体的真空镀膜生产工作中，我们可以根据以上分析来选择适宜的蒸发镀设备和工艺方式，例如MgF2的熔点只有1261℃，考虑到熔点低如选用电子束蒸镀很难控制预蒸镀时间和电流，容易蒸镀不均匀且产生残留原料，原料也易受坩埚的污染。因而更适合使用热电阻蒸镀的方式，可以调节电流来充分预蒸镀，先消除原料中的杂质，避免直接蒸镀原料受热不均导致的喷溅，进而能够保证蒸镀的稳定性和均匀性。

真空镀膜工厂真空镀膜技术中经常使用的方法主要有：蒸发镀膜（包括电弧蒸发、电子蒸发、电阻丝蒸发等技术）、溅射镀膜（包 括直流磁控溅射、中频磁控溅射、射频溅射等技术），这些方法统称物理气相沉积（Physical Vapor Deition）， 简称为PVD。

在PVD真空镀膜过程中，表面的清洁处理十分重要，直接影响产品的电镀质量。进镀膜室之前必须经过认真的镀前清洗处理，表面污染来自工件的加工、输送，在包装过程中附着的各种灰尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等，为避免加工时引起的不良反应，在PVD真空镀膜加工过程中，厂家一般可以通过去油或化学清洗的方法去除。