硼酸在电镀镍中的作用：硼酸在水溶液中电离出来的H+就能补充因氢气的析出而消耗的H+，以维持一定的酸度,防止酸度的急剧变化，使pH值相对稳定。这就是硼酸的缓冲作用。电镀现场生产实践表明，光亮镍中的硼酸含量低于20g/L时，缓冲作用较弱，当其含量达到30g/L时，缓冲作用方始显著，所以普通镀镍液中硼酸含量宜控制在25~35g/L范围内；一般光亮镍中常以35~40g/L为宜

镀镍层有一定的电阻率，已研究出的镍—磷镀层，其阻值大，温度系数小，性能***。

       有的国家已经建立法规：电子设备必须进行屏蔽以防止电磁和射频干扰。电子设备的塑料外壳上镀铜，然后化学镀镍，这样的双金属结构覆层，被公认为是有效的屏蔽方式之一。

      化学镀镍是计算机薄膜硬磁盘制造过程中的关键步骤之一，它是高技术化学镀镍的典型代表，占有相当重要的市场份额。

铝化学沉镍加工

化学镀镍一般都是以液体的形态出现这样，化学镀镍液是十分有特点的，不管是在硬度，装饰灯方面，都有自己的特点和优势。比如说，化学镀镍的耐磨性就比一般的化学物品要好，所以就算在平面状态还是有润滑性的，而在那些制作成零件的镀镍中，耐磨性也是没有被改变的。铝化学沉镍加工

化学镀镍技术是采用金属盐和还原剂,在材料表面上发生自催化反应获得镀层的方法。到目前为止，化学镀镍是国外发展快的表面处理工艺之一，且应用范围也广。化学镀镍之所以得到迅速发展，是由于其***的工艺特点所决定。