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武汉现货交易电子零件生产公司***「多图」
来源:2592作者:2022/9/5 18:05:00
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视频作者:广州同创芯电子有限公司






2SC5200 晶体管:引脚配置及其应用-广州同创芯电子有限公司


引脚配置2SC5200 晶体管的引脚配置及其符号如下所示。该晶体管包括三个端子,下面讨论每个端子。

2SC5200 晶体管引脚配置

l Pin1(基极):控制晶体管的偏置,用于打开或关闭晶体管

l Pin2(集电极):电流流经集电极,通常接负载

l Pin3(发射极):电流通过发射极流出,通常接地特性和规格2SC5200 晶体管的特性和规格包括以下内容。

l 基于大功率的 NPN 晶体管

l 它采用 To-264 封装设计

l 大电流容量

l 基于高保真 (HiFi) 的音频放大器输出。

l 这个晶体管的开/关非常简单

l 该功率晶体管一旦处于工作状态,就会处理电流

l 晶体管处理低频或高频范围,因此用于音频放大器。

l 一旦晶体管处于导通状态,晶体管上的功率降就会减少。

l 谐波失真低

l 高过渡频率

l hFE 的直流电流增益范围为 55 至 160

l 过渡频率为30MHz

l 持续集电极电流或IC为15A

l 发射基极电压或 VBE 为 5V

l 集电极到发射极电压或 VCE 为 230 V

l 集电极到基极电压或 VCB 为 230V

l 晶体管极性为 NPN

l 基极电流或IB为1.5A

l 工作温度范围为 -55°C 至 150°C

l 功耗或PD为150W

等效的 2sc5200 晶体管是 2sd1313、2sc5242、2sc3320 & FJL4315,该晶体管的替代品是 MJL3281A、KTC5242、TTC5200 & MJl13002A 。





LED 与 8051 的接口

我们可以通过两种方式将 LED 连接到微控制器 8051。但是连接和编程技术会有所不同。本文提供了有关 LED 与 8051 接口的信息以及 AT89C52/AT89C51 微控制器的 LED 闪烁代码。


仔细观察接口 LED 2 处于正向偏置,因为 5v 的输入电压连接到 LED 的正极,所以这里的微控制器引脚应该处于低电平。换之亦然与接口 1 连接。

电阻器在 LED 接口中很重要,可以限制流动的电流并避免损坏 LED 和/或 MCU。

只有当电流流向地面时 MC 的 PIN 值为高时,接口 1 才会发光 LED。

仅当 MC 的 PIN 值低时,接口 2 才会点亮 LED,因为电流由于其较低的电位而流向 PIN。

电路图如下所示。LED 连接到端口 1 的引脚 0。


什么是雪崩光电二极管:工作原理及其应用

雪崩光电二极管或 APD 是由日本工程师“Jun-ichi Nishizawa”于 1952 年设计的。 APD 是一种非常灵敏的半导体探测器,它利用光电效应将光转化为电。2020 年,将在该二极管中添加石墨烯层,以避免终退化以维护这些二极管。

在光纤通信系统中,使用雪崩光电二极管或 APD 等单个组件将光转换为电信号。在雪崩过程中,电荷载流子是通过碰撞产生的。光粒子状光子会产生许多电子以产生电流。本文概述了什么是雪崩光电二极管及其应用。


关于电子元器件分销商广州同创芯

广州同创芯是一家 b2b 电子合同制造商,在拥有电子元件采购点。我们可以以的价格寻找和采购混合电子元件和 IC,并满足的客户需求。无论您想要什么组件,无论数量多少,您都可以从同创芯以合理的价格和可追溯的质量购买。现货库存型号:ATTINY1616-MNR、LAN9500AI-ABZJ-TR、IPP086N10N3G 、IRF530NPBF、PIC16LF15386-I/PT、S9S12G48F0MLFR、LM26480SQ-AA//PB、AD8607ARZ-REEL7、ADUM1200CRZ-RL7A、DM2582EBRWZ-REEL7、DS1390U-33+TR、NCP1399ACDR2G、NCL2801CDADR2G、TL594CDR、DS90UB947TRGCRQ1、NCP3231AMNTXG 、BQ40Z50




8英寸碳化硅时代钟声渐近,国内第三代半导体领域再添喜讯

近日,经过晶体实验室研发团队半年多的技术攻关,晶盛机电首颗8英寸N型SiC晶体成功出炉,这标志着晶盛机电第三代半导体材料SiC研发自此迈入8英寸时代。

SiC器件具有耐高温、耐高压、高频特性好、转化、体积小和重量轻等优点,被广泛应用于新能源汽车、轨道交通、光伏、5G通讯等领域。但“高硬度、高脆性、低断裂韧性”的碳化硅,对生产工艺有着极其苛刻的要求,而大尺寸的碳化硅晶体制备一直是行业的“卡脖子”技术。

此次研发成功的8英寸SiC晶体,晶坯厚度25mm,直径214mm,是晶盛在大尺寸SiC晶体研发上取得的重大突破。

这不但成功解决了8英寸SiC晶体生长过程中温场不均、晶体开裂、气相原料分布等难点问题,同时还了SiC器件成本中衬底占比过高的难题,为大尺寸SiC衬底广泛应用打下基础。




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