光学平台使用时请勿用酸性液体清洗本产品，以免破坏产品表面质量，请勿将本产品放置在高温、潮湿及高强度振源处，请勿用水冲洗本产品，本产品长时间处于一种状态下，请用水平仪调整台面水平，工作台面上搁置的任何设备或工具，都必须小心轻放，尽量不要相对磨擦，以避免损伤工作台面，降低使用精度。工作台面安装孔，是用于固定设备的M6螺孔，使用时避免用力过大，影响工作台精度。

控制静力矩的作用，光学平台的硬重比对于其共振频率有着重要的影响。较高的硬重比可以提高平台的共振频率，从而降低其在外界影响下的振动。而且在外力作用下，具有较高硬重比的平台可以在Z小的重量下产生Z小的变形，增加系统内部的刚性。内部采用蜂窝状支撑结构的光学平台可以充分的提高硬重比，达到提高系统性能的目的。

控制温度变化，随着时间的延续，不规则温度变化会造成渐渐的结构弯曲。减小温度效应的关键在于控制环境减少温度变化。例如，避免在平台下放置散热设备，隔绝热源设备和硬件，如光源、火焰等。

精密光学平台一般是指非气浮的隔振台，就是通过橡胶垫来隔震的，自动平衡台是通过气囊来隔震的，隔震效果较前边的好许多。精密光学平台具有重量轻，体积相对轻便，便于在使用过程中灵活移动和摆放，适用在中小型光学实验组合或作为小型精密仪器的使用平台。同时可以灵活的配置专门设计的支架，为仪器的移动和适应不同场合的实验室提供方便。