随着经济的发展，光学平板的使用越来越多，从紫外到近红外，SFS的温度稳定性，耐热性都很好。 准分子激光用SFS，用于高功率的准分子激光 去除抛光面的次表面缺陷（微小裂纹），对于改善膜的质量，提高耐高功率激光的稳定性很重要。光学板的两侧经过抛光，通常用作透射元件，如分光镜或窗口，或用作全反射器或光学测量的参考面。Bk7基板通常用于可见光和近红外区域。从紫外到近红外，sfs 具有良好的温度稳定性和耐热性。用于高功率准分子激光器 krf （248nm）的准分子激光器 sfs 具有较低的荧光性能。

光学平台系列产品主要用于实验室搭建光路或固定仪器设备。光学平台安装孔多，抗振能力强，可以有效地将系统与振源隔离;可降低系统内部共振的概率，提高系统的稳定性;可提高平台的共振频率，提高系统性能。光学平台广泛应用于光电、机械制造、航空航天、冶金、生化分析等领域，以及其他行业的精密试验仪器、设备等需要振动隔离的关键装置中。光学平台系列产品主要包含光学平板、光学面包板、隔振光学平台、气浮.隔振光学平台。

早期的双面加工,是在一般的二轴机上,采用上下平模,使用挡圈和分离片对平板的两个面同时进行加工,其装置如图12-1所示,主要进行精磨和抛光的双面加工。加工时,下模1随机床主轴转动,上模5在摆架带动下摆动,同时随下模的转动而转动,其转动没有动力,被加工平板2放在分离片3内,摆动的上模将带动挡圈,从而带动被加工平板在下模平面上平动,同时平板亦可以在分离片圈内随上下模的转动而转动。

这种双面加工,一般速度不高。下模比较大,上模比较小,挡圈直径比上模大,比下模小。适当地调节上模的摆动量,可以实现平板的上下表面同时精磨或抛光。研磨或抛光时,人工将磨料或抛光粉间断地添加到下模和平板的表面。这种低速的双面加工,比单面加工提高了效率,但被加工的平面度和双面的平行度则达不到很高的要求,所以只适用于般精度平板的加工。

随着大规模、超大规模集成电路制造技术的发展,由于大批量半导体硅片加工的需要,国外出现了双面高速加工机床,适用于半导体硅片的双面研磨和抛光,进而被推广到高速研磨抛光光电仪器中的光学平板。