随着***的设备和工艺的发展，使纳米量级的测量成为可能。例如，变相光学干涉仪测量物体的表面粗糙度，目前可以达到1纳米的分辨率。在半导体领域，已生产出线宽在亚微米量级的集成电路，提出测量准确率小于50纳米的精度要求。这样的应用对系统中不同元件相关配合精度和稳定性提出了极高的要求。例如，用显微镜对图像进行高度放大的成像系统，显微镜和照像物镜共同决定了相纸上每点的图像。如果，在曝光过程中光学系统的每一部分(照明系统、样品、显微镜光学系统、成像光学系统和相纸平面)都准确地一同移动，不存在相对位移，成像也会很清晰。如果样品相对物镜产生了运动，则像就会模糊。在光学干涉测量、全息及运用相似的规律时，控制相对运动都是很重要的。

我国光学平台仪器的不断发展和功能的不断完善为现代光学平台仪器向更品质的智能发展创造了条件。未来10年，更多的新技术、新器件推广应用，因而在光机电仪一体化的基础上融入不同原理，派生出新用途的产品，以满足各领域日益增长的需求。具有优异性能的光学平台器件和功能材料的开发和应用，将加速现代光学平台的不断发展，使光学平台设备领域发生重要变革，推动产品向小型化、高分辩、光电化和自动化发展。未来光学平台仪器发展方向将是简化设计，应用高精度隔度隔振，提高智能化和便于操作。

精密光学平台产品特点：　　

1、外框采用刚性强、变形小、焊接性能好的精良中碳钢板焊接制成，外部双层涂附，有效保护内部结构不受侵蚀，延长平台使用寿命。　　

2、平台核芯部分加工采用的蜂窝结构，有效降低了固有频率、提高了阻振性能，增加了产品的整体刚度，可减少平台承载后的局部形变量。　　

3、平台面板加工采用高导磁、低热膨胀系数的不锈钢材料，精磨加工后，耐腐蚀、耐磨损、美观实用；高导磁的特性可吸附磁座，方便在平台上搭建各种试验系统。　　

4、一般台面尺寸较大，为保证较强的刚度，台板厚度多为200-300mm，台板重量大，不易搬运。　　

5、工作面25X25mm阵列M6螺纹孔，台面不平度≤0.05mm/m2，表面粗糙度≤0.8μm。　　

6、精良高弹软橡胶减振，固有频率≤5Hz， 以下参数均出自本公司检测部门实际检测得出。

精密光学平台在启动以后其静态压缩量较大，而且在固有频率上有着明显的降低，当然在隔振过程中的作用和性能上是比较良好的，在设计方面来说，还是会了解到相互之间的技术优点和功能，这在推广的时候还是会具备了全新的优势，在市场上销售的时候，你会知道相互之间的功能和优势还是会比较突出的，在推广的时候始终还是会占据优势的。