真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中，用电阻加热或电子束和激光轰击等方法把要蒸发的材料加热到一定温度，使材料中分子或原子的热振动能量超过表面的束缚能，从而使大量分子或原子蒸发或升华，并直接沉淀在基片上形成薄膜。这种方法的优点是得到的膜与基板间有极强的附着力，有较高的沉积速率，膜的密度高。离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下的高速运动轰击作为阴极的靶，使靶材中的原子或分子逸出来而沉淀到被镀工件的表面，形成所需要的薄膜。

真空蒸发镀膜常用的是电阻加热法，其优点是加热源的结构简单，造价低廉，操作方便；缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。电子束加热和激光加热则能克服电阻加热的缺点。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热，电子束的动能变成热能，使材料蒸发。电子束加热上利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热，电子束的动能变成热能，使材料蒸发。激光加热是利用大功率的激光作为加热源，但由于大功率激光器的造价很高，目前只能在少数研究性实验室中使用。

溅射技术与真空蒸发技术有所不同。“溅射”是指荷能粒子轰击固体表面（靶），使固体原子或分子从表面射出的现象。射出的粒子大多呈原子状态，常称为溅射原子。用于轰击靶的溅射粒子可以是电子，离子或中性粒子，因为离子在电场下易于加速获得所需要动能，因此大都采用离子作为轰击粒子。溅射过程建立在辉光放电的基础上，即溅射离子都来源于气体放电。不同的溅射技术所采用的辉光放电方式有所不同。直流二极溅射利用的是直流辉光放电；三极溅射是利用热阴极支持的辉光放电；射频溅射是利用射频辉光放电；磁控溅射是利用环状磁场控制下的辉光放电。溅射镀膜与真空蒸发镀膜相比，有许多优点。如任何物质均可以溅射，尤其是高熔点，低蒸气压的元素和化合物；溅射膜与基板之间的附着性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重复性好等。缺点是设备比较复杂，需要高压装置。此外，将蒸发法与溅射法相结合，即为离子镀。3×10-3Pa，加热坩锅使高纯度的铝丝在1200℃～1400℃的温度下溶化并蒸发成气态铝。这种方法的优点是得到的膜与基板间有极强的附着力，有较高的沉积速率，膜的密度高。

彩色镀铝膜的分类

（1）防伪类镀铝膜：防伪类镀铝膜是以加载有激光全息图案或文字信号的基材为原料，经过镀铝工艺加工而成的。防伪类镀铝膜商品全息图案层次分明、色彩艳丽，防伪性好。

（2）高亮镀铝膜：高亮镀铝膜包括转移型真空镀铝膜和烫金型真空镀铝膜，其镀铝层光泽度高，金属感强，镀铝均匀度好、附着力佳。

（3）哑光镀铝膜：哑光镀铝膜是哑光膜经过真空镀铝工艺加工而成的，其镀铝层均匀度好，印刷上胶后附着力佳，哑光效果好。

（4）功能性镀铝膜：功能性镀铝膜是以聚酯或聚薄膜为原料，经镀铝技术制做而成的。功能性镀铝膜金属光泽强、镀铝层均匀度好、镀铝层附着力佳、水蒸气透过量小于0.5g/（m2.24h），氧气透过量小0.5ml/（m2.24h.atm）。

（5）VMPVC镀铝薄膜：VMPVC镀铝膜是以聚薄膜为原料，经真空镀铝制做而成的，广泛应用于印刷、标牌、糖果，巧克力等食品包装及装饰用品等。

     （6）VMBOPP镀铝薄膜：VMBOPP镀铝膜是以双向双向拉伸聚薄膜为原料，经真空镀铝制做而成的，有普通型和可热封型，广泛用于软包装、复合、装潢、激光全息防伪、激光压印镭射等。

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