退火炉
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退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺,其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以掺杂剂,将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面,使致密沉积的薄膜,改变生长的薄膜的状态,修复注入的损伤,移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。
真空退火炉主要功能
控制系统具有热处理过程的温度显示和温度曲线记录功能。六点温度记录仪可同步记录该炉温工作情况。该炉按炉膛前后共分6个控温区分布在炉膛内,合理设置测温点位置,可避免真空罐因受热不均匀而产生大幅度变形。控制系统各区均具有超温断偶声光报警、自动切断加热电源等安全自动保护功能。每台控制柜上均设有电压指示表和三相电流指示表。
退火炉燃烧系统
排烟预热装置:在炉后上端安装了排烟预热装置,炉内的烟气通过预热器时,由风机送入冷风进行预热,再由管路送至烧咀进行助燃,并在出口安装一只手动碟阀,该阀可调节炉内压力。广泛应用于化工、石油、食品、冶金、机械、轻工、电力、船舶、造纸、矿山、、集中供热等工业部门的加热、冷却、冷凝、蒸发等工艺过程中。
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