喷丸

喷丸强化是将大量高速运动的弹丸喷射到零件表面上，犹如无数个小锤锤击金属表面，使零件表层和次表层发生一定的塑性变形而实现强化的一种技术。

作用：提高零件机械强度以及耐磨性、和耐蚀性等；用于表面消光、去氧化皮；消除铸、锻、焊件的残余应力等。

滚压

滚压是在常温下用硬质滚柱或滚轮施压于旋转的工件表面，并沿母线方向移动，使工件表面塑性变形、硬化，以获得准确、光洁和强化的表面或者特定花纹的表面处理工艺。

物理气相沉积（PVD）

物理气相沉积是指在真空条件下，用物理的方法，使材料汽化成原子、分子或电离成离子，并通过气相过程，在材料表面沉积一层薄膜的技术。

物理沉积技术主要包括真空蒸镀、溅射镀、离子镀三种基本方法。

物理气相沉积具有适用的基体材料和膜层材料广泛；工艺简单、省材料、无污染；获得的膜层膜基附着力强、膜层厚度均匀、致密、少等优点。

广泛用于机械、航空航天、电子、光学和轻工业等领域制备耐磨、耐蚀、耐热、导电、绝缘、光学、磁性、压电、滑润、超导等薄膜。

气相沉积技术是指将含有沉积元素的气相物质，通过物理或化学的方法沉积在材料表面形成薄膜的一种新型镀膜技术。

根据沉积过程的原理不同，气相沉积技术可分为物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)两大类。

沉积膜层主要指依靠电能、动能或热能，将成膜原子、分子或离子输送至基体表面，进而发生凝聚形成的膜层。一般而言，形成的涂层化学成分多样，可以根据需求和应用不同选择无机或有机成分甚至金属涂层。由于加工方法的多样性和差异性，形成的沉积膜层与基体的结合强度变化也很大。目前形成沉积膜层的方法主要包括喷涂（spraying）、气相沉积（vapor deition）、溶胶-凝胶法（sol-gel）以及仿生沉积（biomimetic）等。