反渗透设备的用途及处理

反渗透设备的用途

⒈制取电子工业生产如显像管玻壳、显像管、液晶显示器、线路板、计算机硬盘、集成电路、芯片、单晶硅半导体等工艺所需的纯水、高纯水；

⒉制取热力、火力发电锅炉，厂矿企业中、低压锅炉给水所需软化水、除盐纯水；

⒊制取药工业所需的用大输液、、药剂、生化制品纯水、用无菌水及人工透析用纯水等；

⒋制取饮料（含酒类）行业的饮用纯净水、蒸馏水、矿泉水，酒类酿造水和勾兑用纯水；

⒌海水、苦咸水制取生活用水及饮用水；

⒍制取电镀工艺用去离子水；电池（蓄电池）生产工艺的纯水；汽车、家用电器、建材产品表面涂装、清洗沌水；镀膜玻璃用纯水；纺织印染工艺所需的除硬除盐水；

⒎石油化工业如化工反应冷却水；化学药剂、化肥及精细化工、化妆品制造过程用工艺纯水；

⒏宾馆、楼宇、社区机场房产物业的供水网络系统及游泳池水质净化；

⒐线路板、电镀、电子工业废水处理及回用；

⒑生活、院、制革、印染、造纸工业废水及垃圾渗沥液的处理

反渗透设备化学清洗法的步骤和注意事项

　　化学清洗的标准

　　发生以下情况时，物理冲洗已经不能使反渗透膜的性能恢复，这时就需要进行化学清洗。

① 标准化条件下的产水量下降10 – 15 %;

② 进水和浓水之间的系统压差升高到初始值的1.5倍;

③ 产水水质下降10-15%。

　　化学清洗的频率

　　当膜元件发生了轻度污染时，就应及时清洗膜元件。重度污染会因化学剂不易深入渗透至污染层，且污染物也不易被冲出膜外等因素而影响清洗效果。如果膜元件的性能降低至正常值的30-50%，很难清洗恢复到膜系统初始性能。

　　膜的清洗周期根据现场实际污染情况而定。正常的清洗周期是每3-12个月一次。如果在1个月内清洗一次以上，需要改善预处理例如追加投资或重新设计膜系统;如果清洗反渗透纯水设备周期在1-3个月一次，应侧重于调整和优化现有系统的运行参数。即使系统长期没有发生污染，为了能够更好的保证系统正常运行，一般可考虑每6个月进行1次化学清洗。

　　当预处理工艺中采用了无机絮凝剂，经常会有反应不完全的无机盐没有形成可过滤掉的絮凝体。用户应确保没有过量的絮凝剂进入到膜系统中。过量的絮凝剂能通过SDI测试装置测定出来，例如SDI膜片上的铁为3μg/片，任何时候不应超过5μg/片。

　　除了采用浊度和SDI测定之外，颗粒计数器也可以衡量RO/NF进水是否合格。粒径大于2μm的颗粒物应<100个/ml。

　　清洗剂的选择

　　不同污染物应采用不同的清洗剂。污染发生时通常不是只有一种污染物，因此常规化学清洗需要包括高pH值清洗和低pH值清洗两大步骤。可以使用的常规化学清洗剂请参见表4。选用哪个清洗剂进行化学清洗，可以按以下方法判断：

活性炭过滤器系统采用果壳

活性炭过滤器

系统采用果壳活性炭过滤器，活性炭不但可吸附电解质离子，还可进行离子交换吸附。经活性炭吸附还可使高耗氧量（COD）由15mg/L(O2）降至2～7mg/L(O2），此外，由于吸附作用使表面被吸附的浓度增加，因而还起到催化作用、去除水中的色素、异味、大量生化有机物、降低水的余氯值及农污染物和除去水中的三卤化物（THM）以及其它的污染物。同时，设备具有自我维护系统，运行费用很低。

离子软化系统/加系统

R/O装置为了溶解固体形物的浓缩排放和淡水的利用，为防止浓水端特别是RO装置后一根膜组件浓水侧出现CCO3,MgCO3,MgSO4,CSO4,BSO4,SrSO4,SiSO4的浓度积大于其平衡溶解度常数而结晶析出，损坏膜原件的应有特性，在进入反渗透膜组件之前，应使用离子软化装置或投放适量的阻垢剂阻止碳酸盐，SiO2，硫酸盐的晶体析出.