化学抛光的原理:金属试样表面各组成相的电化学电位不同,形成了许多微电势,在化学溶液中会产生不均匀溶解。在溶解过程中试样面表层会产生一层氧化膜,试样表面凸出部分由于粘膜薄,金属的溶解扩展速度较慢,抛光后的表面光滑,但形成有小的起伏波形,不能达到十分理想的要求。
在化学抛光过程中,金属零件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜不断溶解,且前者要强于后者。由于零件表面微观的不一致性,表面微观凸起部位优先溶解,且溶解速率大于凹下部位的溶解速率;而且膜的溶解和膜的形成始终同时进行,只是其速率有差异,结果使金属零件表面粗糙度得以整平,从而获得平滑光亮的表面。化学抛光可以填充表面毛孔、划痕以及其它表面缺陷,从而提高疲劳阻力、腐蚀阻力。
化学抛光原理
化学抛光的原理是金属表面通过有规则溶解达到光亮平滑。在化学抛光材料,抛光蜡 (4张) 光过程中,钢铁零件表面不断形成钝化氧化膜和氧化膜不断溶解,且前者要强于后者。
化学抛光是靠化学试剂的化学浸蚀作用对样品表面凹凸不平区域的选择性溶解作用消除磨痕、浸蚀整平的一种方法。
化学抛光设备简单,能够处理细管、带有深孔及形状复杂的零件,生产。化学抛光可作为电镀预处理工序,也可在抛光后辅助以必要的防护措施直接使用。
化学抛光具有更光滑的微观表面和反光率,使设备不粘壁、不挂料、易清洗,能清除工件表面污垢和油脂。它在筛选过滤机械、石油化工反应釜、卫生及建筑装饰等领域有着广泛的应用。
化学抛光的原理是金属表面通过有规则溶解达到光亮平滑。
化学抛光可以靠化学抛光液的自发化学反应,在不借助电力和人力的条件下,自动把待抛光的工件提高表面光洁度,可以达到镜面效果。我们也可以简单的理解:化学抛光就是用化学把东西变亮。
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