真空镀膜机溅射工艺

真空镀膜机溅射工艺主要用于真空镀膜机溅射刻蚀和薄膜沉积两个方面。溅射刻蚀时，被刻蚀的材料置于靶极位置，受Ar离子的轰击进行刻蚀。刻蚀速率与靶极材料的溅射产额、离子流密度和溅射室的真空度等因素有关。真空镀膜机溅射刻蚀时，应尽可能从真空镀膜机溅射室中除去溅出的靶极原子。常用的方法是引入反应气体，使之与溅出的靶极原子反应生成挥发性气体，通过真空系统从溅射室中排出。沉积薄膜时，溅射源置于靶极，受Ar离子轰击后发生溅射。如果靶材是单质的，则在衬底上生成靶极物质的单质薄膜；若在溅射室内有意识地引入反应气体，使之与溅出的靶材原子发生化学反应而淀积于衬底，便可形成靶极材料的化合物薄膜。通常，制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接进行溅射而得。在溅射中，溅出的原子是与具有数千电子伏的高能离子交换能量后飞溅出来的，其能量较高，往往比蒸发原子高出1～2个数量级，因而用溅射法形成的薄膜与衬底的粘附性较蒸发为佳。

若在溅射时衬底加适当的偏压，可以兼顾衬底的清洁处理，这对生成薄膜的台阶覆盖也有好处。另外，用真空镀膜机溅射法可以制备不能用蒸发工艺制备的高熔点、低蒸气压物质膜，便于制备化合物或合金的薄膜。溅射主要有离子束溅射和等离子体溅射两种方法。离子束溅射装置中，由离子***提供一定能量的定向离子束轰击靶极产生溅射。离子***可以兼作衬底的清洁处理和对靶极的溅射。为避免在绝缘的固体表面产生电荷堆积，可采用荷能中性束的溅射。中性束是荷能正离子在脱离离子***之前由电子中和所致。离子束溅射广泛应用于表面分析仪器中，对样品进行清洁处理或剥层处理。由于束斑大小有限，用于大面积衬底的快速薄膜淀积尚有困难。等离子体真空镀膜机溅射也称辉光放电溅射。产生溅射所需的正离子来源于辉光放电中的等离子区。靶极表面必须是一个高的负电位，正离子被此电场加速后获得动能轰击靶极产生溅射，同时不可避免地发生电子对衬底的轰击。

真空镀膜技术优点

清洗过程简化：现有真空镀膜机PVD涂层镀膜工艺，多数均要求事先对工件进行严格清洗，既复杂又费事。然而，离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用，并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程。清洗效果良好，能使镀层直接贴近基体，有效地增强了附着力，简化了大量的镀前清洗工作。

可镀材料广泛：离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面，使大量的电能在工件表面转换成热能，从而促进了表层组织的扩散作用和化学反应。然而，整个工件，特别是工件心部并未受到高温的影响。因此这种镀膜工艺的应用范围较广，受到的局限性则较小。通常，各种金属、合金以及某些合成材料、绝缘材料、热敏材料和高熔点材料等均可镀复。即可在金属工件上镀非金属或金属，也可在非金属上镀金属或非金属，甚至可镀塑料、橡胶、石英、陶瓷等。

真空镀膜机镀铝性能与哪些因素有关

真空镀膜机镀铝性能取决于塑件和镀膜层的质量，被人戏称为富人的游戏，说明镀膜质量要求相当高。镀膜质量的关键是底漆层质量。虽有无底涂镀膜，但其模具质量要求和成本高，存在真空镀膜机镀铝反射亮度不足和塑件缺陷等问题，易导致镀铝产品报废率居高不下。一般而言，无底涂的报废率在10%左右，有底涂在20%左右，甚至会更高。为解决这一困惑，国内有厂家经过10多年的努力，采用了炉内喷涂底漆并固化使镀件生成高亮的表面(无污染残留物)，进行高压离子清洗预处理，真空蒸发镀铝和镀保护膜，使产品的合格率在98%以上，每年可节省大量的喷漆、烤漆能耗和人工成本等。

电子束钢带真空镀膜机有许多长处有哪些

1、可选择的镀膜资料多而不受资料熔点约束。因而，除了热镀锌中常见的镀锌、铝、锡以外，简直一切的金属资料都能够蒸镀，还可镀品种许多的金属氮化膜，金属氧化膜和金属炭化物及各种复合膜。这为开展新式带钢资料供给了很大的自由度。

2、镀膜资料利用率高，环境污染小。真空镀膜属干式镀膜，没有有害液体、气体的发生。

3、带钢镀膜质量好，能取得均匀、滑润且极薄的镀膜，镀膜纯度高，耐蚀性和附着力好。钢带镀膜前可经电子束预热外表活化，镀膜纯度高，没有中心硬脆的合金层，能够一次冲压成型，甚至能够卷成直经很小的管而不掉落镀层。

4、技能灵敏，改动品种方便，能够依据商品请求灵敏地完成在钢带上镀单面、双面、单层、多层，能够一同镀两种资料到达镀混合膜。镀膜厚度易于操控，并且能够镀制超薄膜。