真空镀膜设备_磁控溅射镀膜设备技术应用

蒸发和磁控溅射两用立式装饰镀膜机，主要适用于塑料、陶瓷、玻璃金属材料表面镀制金属化装饰膜。由于镀膜室为立式容器，所以它具有卧式镀膜机的一切优点，又利于自重较大的、易碎的镀件装卡，更可方便地实现自动生产线，是替代传统湿法水电镀的更为理想的新一代真空镀膜设备。本机镀部分产品可不做底油。

真空镀膜设备机主要特点配用改进型高真空排气系统，抽速快、、节电、降噪和延长泵使用寿命;实现蒸发、磁控溅射、自动控制，操作简单，工作可靠;蒸发镀应用新型电极引入装置，接触电阻小且可靠;磁控溅射应用镀膜材料广泛，各种非导磁的金属、合金均可作镀料;结构紧凑、占地面积小;磁控、蒸发共用两台立式工件车，操作方便。

(或双门蒸发、磁控两用机)至成真空科技业务范围真空镀膜成套设备与技术，真空工程用各种泵、阀、真空计、油、脂、密封件，真空镀膜材料、涂料、金属及合金制品。

真空镀膜设备故障诊断与排除、老产品改造。新型塑料、金属、玻璃等制品表面处理工艺及技术研究，咨询服务。新技术、新设备、新工艺至成真空科技新开发的磁控、蒸发多用镀膜机，配用改进型高真空抽气系统及全自动控制系统，抽速快、、操作简单、工作可靠;具有可镀膜系广、膜层均匀、附着力好、基板温度底等特点;是镀制金属、合金及化合物膜的理想设备;适合镀制透明膜、半透明膜、超硬膜、屏蔽膜及一些特殊的功能性膜。已广泛应用在光学、电子、通讯、航空等领域。

真空镀膜技术的优点分析

真空镀膜技术优点表现在哪里？真空镀膜技术在塑料制品上的应用广泛，真空镀膜机厂表示，塑料具有易成型，成本低，质量轻，不腐蚀等特点，塑料制品应用广泛，但因其缺点制约了扩大应用。通过真空镀膜技术的应用，使塑料表面金属化，将有机材料和无机材料结合起来，大大提高了它的物理、化学性能。真空镀膜技术优点主要表现在以下几个方面：

1、使塑料表面有导电性；

2、容易清洗，不吸尘。

3、改善美观，表面光滑，金属光泽彩色化，装饰性大大提高；

4、减少吸水率，镀膜次数愈多，孔愈少，吸水率降低，制品不易变形，提高耐热性；

5、改善表面硬度，原塑胶表面比金属软而易受损害，通过真空镀膜技术，硬度及耐磨性大大增加；

6、可以提高耐候性，一般塑料在室外会老化的非常快，主要原因是紫外线照射所致，而镀铝后，铝对紫外线反射强，所以耐候性大大提高。

真空镀膜机分类

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅镀膜机射、MBE分子束外延镀膜机和PLD激光溅射沉积镀膜机等很多种。主要是分成蒸发和溅射两种。在真空镀膜设备中需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程形成薄膜。真空镀膜机对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。

根据工艺要求选择不同规格及类型镀膜设备，其类型有电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、离子镀真空镀膜设备、磁控反应溅射真空镀膜设备、空心阴极离子镀和多弧离子镀等。夹具运转形式有自转、公转及公转+自转方式，用户可根据片尺寸及形状提出相应要求，转动的速度范围及转动精度：普通可调及变频调速等。

采用PVD镀膜技术镀出的膜层有什么优势

采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。PVD膜层能直接镀在不锈钢、硬质合金上、钛合金、陶瓷等表面，对锌合金、铜、铁等压铸件应***行化学电镀铬，然后才适合镀PVD。PVD镀膜技术是一种能够真正获得微米级镀层且无污染的环保型表面处理方法，它能够制备各种单一金属膜（如铝、钛、锆、铬等）、氮化物膜（TiN[钛金]、ZrN〔锆金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。PVD镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为0.1μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.1μm~2μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不须再加工。

多弧离子真空镀膜机镀膜技术具有以下特点：可以任意安装使薄膜均匀。外加磁场可以改善电弧放电；使电弧细碎；旋转速度加快；细化膜层微粒；对带电粒子产生加速作用。金属离化率高，有利于薄膜的均匀性和提高附着力，是实现离子镀膜的良好工艺。一弧多用，既是蒸发源，又是预轰击净化源和离化源。