PVD真空镀膜设备蒸发系统工作方式

PVD真空镀膜设备蒸发系统主要指成膜装置部分，PVD镀膜机的成膜装置很多的，PVD镀膜有电阻加热、射频溅射、离子镀等多种方式。PVD镀膜电阻蒸发根据其结构和工作原理是目前为止应用多的，PVD镀膜广泛的蒸发方式，PVD镀膜也是应用时间长的蒸发方式。

下面介绍PVD镀膜电阻加热和电子***蒸发的方式：

PVD镀膜将钨片做成船状，然后安装在两个电极中间，再热传导给PVD镀膜材料，当钨舟的热量高于PVD镀膜材料熔点的时候，材料就升华或者蒸发了，PVD镀膜由于操作方便，结构简单，成本低廉。PVD镀膜电子***蒸发是到目前为止应用多的一种蒸发方式，PVD镀膜可以蒸发任何一种PVD镀膜料。

将镀膜材料放在坩埚里面，PVD镀膜将蒸发源制作成灯丝形状，PVD镀膜由于灯丝的材料是钨，形成了一股电子束，PVD镀膜由于电子束温度非常高，PVD镀膜可以熔化任何镀膜药材凝结下来。

至成真空十多年来***从事各种真空镀膜应用设备制造，多年来致力于研发和生产真空镀膜机，以新技术不断制造出满足市场需要的真空电镀设备，为客户提供定制化的工艺解决方案和机器。

真空镀膜机真空镀膜机厂家真空镀膜设备工艺清洗

真空镀膜机真空工艺进行前应清洗真空材料，从工件或系统材料表面清除污染物；车灯镀膜机零部件的表面清洗处理也是很有必要的，因为由污染物所造成的气体、蒸气源不仅会使真空系统不能获得所要求的真空度。而且由于污染物的存在，同时也会影响真空部件连接处的强度和密封性能。

真空镀膜机污染物可以定义为“任何一种无用的物质或能量”，多弧离子镀膜机根据污染物的物理状态可分为固体、气体及液体，它们以膜或散粒形式存在。就其化学特征来看，它可以处于离子态或共价态，可以是无机物或有机物。

真空镀膜机暴露在空气中的表面易受到污染，污染的来源有多种，起初的污染通常是表面本身形成过程中的一部分。吸附现象、化学反应、浸析和干燥过程、机械处理以及扩散和离析过程都使各种成分的表面污染物增加。

多弧溅射在靶材上施小电压大电流的作用

多弧溅射在靶材上施小电压大电流使材料离子化（带正电颗粒），从而高速击向基片(负电)并沉积，形成致密膜坚硬膜。主要用于耐磨耐蚀膜。中频溅射的原理跟一般的直流溅射是相同的,不同的是直流溅射把筒体当阳极,而中频溅射是成对的,筒体是否参加必须视整体设计而定,与整个系统溅射过程中,阳极阴极的安排有关,参与的比率周期有很多方法,不同的方法可得到不相同的溅射产额,得到不相同的离子密度中频溅射主要技术在于电源的设计与应用,目前较成熟的是正弦波与脉冲方波二种方式输出,各有其优缺点,首先应考虑膜层种类,分析哪种电源输出方式适合哪种膜层,可以用电源特性来得到想要的膜层效果.中频溅射也是磁控溅射的一种,一般真空镀膜机磁控溅射靶的设计,磁场的设计是各家技术的重点,国际几个有名的溅射靶制造商,对靶磁场的设计相当***,改变磁场设计能得到不相同的等离子体蒸发量.电子的路径,等离子体的分布.关于阴极弧（也就是离子镀），磁控溅射，以及坩埚蒸发都属于PVD（物理气相沉积），坩埚蒸发主要是相变，蒸发靶材只有几个电子伏特的能量。

光学镀膜技术在过去几十年实现了飞快的发展，从舟蒸发、电子束热蒸发及其离子束辅助沉积技术发展到离子束溅射和磁控溅射技术。近年来在这些沉积技术和装备领域的主要技术有以下三点：

一、渐变折射率结构薄膜技术与装备：

渐变折射率结构薄膜技术与装备:已经有大量研究工作已经证实Rugate无界面型薄膜结构和准Rugate多种折射率薄膜结构通过加强调制折射率在薄膜厚度方向上分布，能设计出非常复杂的光谱性能，(部分)消除

了薄膜界面特征，(部分)消除界面效应，如电磁波在界面上比薄膜内部更高密度的吸收中心和散射，也可以增加了薄膜力学稳定性。

二、磁控溅射光学镀膜系统

以LeyboldHelios和ShincronRAS为代表，磁控溅射技术及装备在精密光学领域和消费光电子薄膜领域占据越来越大的份额。磁控溅射薄膜沉积过程控制简单，粒子能量高，获得的薄膜结构致密稳定。

三、间歇式直接光控：

间歇式直接光控：以LeyboldOptics公司的OMS5000系统为代表，光学镀膜过程中越来越多地使用间歇式信号采集系统，对镀膜过程产品片实现直接监控。相对于间接光控和晶控系统，间歇式直接光控系统有利于降低实际产品上的薄膜厚度分布误差，可以进一步提高产品良率并减少了工艺调试时间。