清洗时注意不要用粗糙或尖锐的物料去擦洗产品表面，特别是镜光的，要用柔软一点的、不易脱毛的绒布去擦洗，砂钢和拉丝表面，要顺着纹路去擦，不然很容易搞花表面。

3、表面有灰尘以及易除掉污垢物的，可用绒布、清水来清洗；对于粘结剂成份，使用酒精和（、苯）擦洗。

4、表面的油脂、油、润滑油污染，用绒布擦干净以后用中性洗涤剂、或用洗涤剂清洗。

PVD（Physical Vapor Deition），在真空条件下，采用物理方法，使材料源表面气化成原子、分子或离子，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。

蒸发镀膜

真空条件下，将镀料加热蒸发或升华，材料的原子或分子直接在衬底上成膜的技术。根据加热方法的不同主要有以下几种蒸发镀膜技术。

采用电阻加热蒸发源的蒸发镀膜技术，一般用于蒸发低熔点材料，如铝、金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等；加热电阻一般采用钨、钼、钽等。

离子镀

在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。可将离子发生源与工作室分离，克服了溅射镀膜为了持续放弧而必须保持较高的工作气压的缺陷，高能离子对衬底和沉积薄膜表面的轰击保证了薄膜的附着力和质量，是一种结合了蒸发镀膜和溅射镀膜优势的PVD技术。根据E=U/d，可知此时空间中的电场强度极高，这种极强的电场会把靶材中的电子“扯”出来。

根据离化方式的不同，常用的离子源有考夫曼离子源、射频离子源、霍尔离子源、冷阴极离子源、电子回旋离子源等。