离子镀技术早由D. M. Mattox于1963年提出并付诸实践的。其原理是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其他反应物镀在基片上的工艺。

根据膜层粒子的获得方式，离子镀可分为蒸发型离子镀和溅射型离子镀，其中蒸发型离子镀根据放电原理不同又可分为直流二级型离子镀、热丝弧离子镀、空心阴极离子镀以及热阴极离子镀等。

古铜色

劈裂电弧涂层 ，含Si纳米复合涂层 ， 极高抗热性能 ，适合硬切削，纳米硬度4300Hv，纳米厚度1~3μm。摩擦系数0.3。应用温1200℃.加工硬度可达65HRC.

用途：特适合加工淬火、钢淬火硬钢、不锈钢、沉淀硬化不锈钢

8)黑色

劈裂电弧涂层，纳米厚度1-3μm，加工硬度可达58HRC.

用途：特适合加工不锈钢、钛合金、沉淀硬化不锈钢、铜合金、铝合金

靶材承受的功率密度是有限的.靶面温度过高会导致靶材熔化或引起弧光放电.在直接水冷的情况下,金属靶材的靶功率密度允许值为10~30W/cm2.根据选定的靶电压和允许的靶功率密度,即可确定靶电流密度.

降低Ar压强有利于提高镀膜速率,还有利于提高膜层结合力和膜层致密度.磁控溅射的Ar压强通常选为0.5Pa,气体放电的阻抗随Ar压强的降低而升高.磁控溅射时,可以适当调节Ar压强,