影响磁控溅射真空镀膜机薄膜均匀性的因素有哪些?

气体不均匀性的影响

一般来说气体不均匀可以由两种情况产生，一种是送气不均匀，另一种就是抽气不均匀。正常抽气情况指的是真空室内的孪生靶两端对称抽气，可认为是均匀抽气；而前分子泵关和后分子泵关则是一端抽气，属于不均匀抽气。由于都是均匀送气不均匀抽气，真空室内的气体就不均匀了。很显然前分子泵关只开后分子泵时，气压从前到后逐渐减小，而后分子泵关只开前分子泵时，气压从后到前逐渐减小。实验得到的膜厚考虑磁场的影响后也正与气压变化相符。

真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具有很多种类，包括真空离子蒸发 ，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。真空镀膜设备在使用中也会很多问 题，比如镀出的产品掉膜。下面我们就来介绍一下真空镀膜设备镀出的产品掉膜原因。

1.产品表面的洁净度不够，离子源清洗气放大时间过长。

2.清洗时是否加了清洗剂，或者更换了清洗剂，建议使用纯水先试一下。

3.工艺参数是否变动，在膜厚和电流上可进行一些调整。

空镀膜设备在设备运送中有可能出现各种各样的问题，因此在用以前，要从严开展安全检查，以保证生命安全，那样使用真空镀膜设备使用时一般是必须做好什么日常检查呢?1.服务器减速箱、牵引带减速器应当常常加油，拆换机油。2.新手机请使用10多天更换机油，以保证各旋转部位正常运行。3.留意加油，避免卡死和超温毁坏。4.还应当查验各联接部位的固紧状况，避免罗栓松脱。5.泡管内的空气压缩要保持适当。6.运行主电机时，应先运行电机后逐渐加快;关掉主电机，应先降速之后再待机。镀膜设备真空镀膜技术的特征，真空镀膜技术主要包括真空挥发镀、真空磁控溅射镀、真空等离子喷涂、真空束流堆积、干法刻蚀等几种方式。