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铝化学沉镍是一种将铝作为还原剂,在镍盐溶液中进行还原反应,沉积出纯镍金属的方法。具体的反应可以表示为:

2Al + 3Ni2+ → 2Al3+ + 3Ni

在反应中,铝被氧化为Al3+离子,同时镍离子被还原为纯镍金属。这个过程通常在酸性溶液中进行,以提高反应速率和效果。

铝化学沉镍具有以下一些特点和应用:

1. :铝是一种强还原剂,可以迅速将镍盐溶液中的镍离子还原为金属镍,反应速率较快。

2. 高纯度:沉积出的镍金属通常具有较高的纯度,可以达到工业要求。

3. 均匀性:铝化学沉镍可以在整个镍表面均匀沉积,形成均匀的镍金属涂层。

4. 应用广泛:镍金属具有良好的耐腐蚀性能和导电性能,广泛应用于电镀、电子、化工、航空航天等领域。

需要注意的是,铝化学沉镍过程中产生的气体氢气是有毒且的,需要采取相应的安全措施。此外,还需要控制反应条件和溶液组成,以获得理想的沉镍效果。

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从镀镍层功能分类,镀镍工艺分为:

(1) 普通镀暗镍工艺主要用于镀层打底,防腐等用途。打底用来代替镀铜,以提高后续镀层与基体的结合力。加厚镀层多用于非装饰要求的防腐、焊接等用途。

(2) 半光亮及全光亮镀镍工艺主要用于装饰性防腐镀层的底镀层,上覆装饰镀铬层。

半亮镍镀层中不含有硫元素与含有硫元素的全光亮镀层配合,两镀层之电位差在120V以上,两层镍形成微电池体系,延缓了贯穿腐蚀的速度。半光亮镍具有很好的整平性能。而光亮镍可达到镜面光亮度。

化学镀镍处理工艺,是利用化学镀镍液在金属表面镀上一层镀镍层,防止腐蚀性物质与金属基体之间的接触,保护金属基体,达到表面防锈的作用。现在,的化学镀镍处理工艺,在镀速、镀层的耐磨性、光泽度等方面,已经取得了长足的进步。

化学镀镍还可用于高能微波器件、接插件和潜水艇的通信元件上。在一般情况下,采用扩展面积法来测量化学镀镍层的可焊性,即采用φ1.5mm 的焊锡丝放在镀层的表面上,在 400℃和氢氮混合气体中加热 30min,测定扩展面积,就能得到可焊性与镀层含磷量的关系,扩散面积越大,镀层的可焊性越好。

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