真空镀膜加工的科学蒸镀

在真空蒸镀时，气态粒子是由放于蒸发源中的蒸发材料产生的，而蒸发源的加热可以采用电阻法、高频感应法、电子束轰击、激光蒸发或放电法等。图1-1是真空蒸镀设备和一些蒸发源的简图。该真空蒸镀设备的工作室为金属钟罩，并备有手动的或液压的提升机构。底盘下面是由机械泵和扩散泵组成的抽气系统，通过真空阀门对工作室抽真空。

真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相堆积（PVD）技术和化学气相堆积（CVD）技术。

物理气相堆积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀细密、薄膜厚度可控性好、运用的靶材广泛、溅射规模宽、可堆积厚膜、可制取成分安稳的合金膜和重复性好等长处。一同，物理气相堆积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因而可作为Z终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。

       为什么真空镀膜加工在我们的生活中运用的如此普遍呢？这得益于真空镀膜沉积的膜层能使材料具有新的、良好的物理和化学性能。含金镀层具备良好的导电性和耐蚀性使得氢能源汽车电堆使用性能和寿命大大提升；硬质膜层可以有效保护常规佩戴的手表、首饰等刮花碰伤；镀层耐腐蚀性能可以有效地防止产品生锈变色；镀层色彩的多样性能够满足各类消费者的搭配所需；食品级镀层让我们的用餐变得更加有情调；防指纹镀层让我们使用的产品常保清新亮丽。