桌面光刻机
曝光光源:紫外LED光源波长:365nm;曝光面积:4英寸、6英寸可选;曝光方式:单面接触式定时曝光;曝光分辨率:2um;曝光强度:20~200mW/cm2可调;曝光不均匀性:≤5%;光源平行性:≤2°;光源寿命:≥20000h;电源输入:AC220V±10V,50HZ功率:250W重量:25kg外形尺寸:382(长)*371(宽)*435(高)工作环境:温度0℃-40 ℃,相对湿度<80 %
数显测厚规(千分款)
测量匀胶厚度量程:0~10mm
精度:0.001mm
公差:≤±0.005mm
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。不断追求卓yue,通过专ye、创新和合作,为客户创造更大的价值,共同kai创微流控领域的美好未来。
耗材
硅片
硅片没有特殊要求,单面抛光即可。制备SU8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。
光刻掩膜板
光刻掩膜版(又称光罩,英文为Mask Reticle),简称掩膜版,是制备SU8模具光刻工艺所使用的图形母版,由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形,通过曝光过程将微结构图形信息转移到SU8光刻胶涂层上,实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版,一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。
装箱清单
1、桌面微型紫外光刻机主机 1台
2、匀胶机 1台
3、热板 2台
4、数显测厚规(千分款) 1只
5、显微镜 1台 (选配)
6、耗材:硅片、掩膜版、SU8光刻胶 (需额外购买)
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